[发明专利]处理暗盒和可装配该处理暗盒的成像系统无效

专利信息
申请号: 92112283.7 申请日: 1992-09-27
公开(公告)号: CN1049988C 公开(公告)日: 2000-03-01
发明(设计)人: 渡边一史;关根一美;津田忠之;池本功;山口义益;笹子悦一;野田晋弥;小林和典 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G21/18 分类号: G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张祖昌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 处理 暗盒 装配 成像 系统
【说明书】:

本发明涉及一种处理暗盒和可装配该处理暗盒的成像系统。这样的成像系统可包括诸如静电复印机、传真机、文字处理机等。

在诸如复印机之类的成像系统中,通过局部地对均匀荷电的载像部件曝光得到潜影,随之用调色剂显影该潜影,再将调色影像转印至记录纸上,从而在该记录纸上形成图像。

在这种成像系统中,一当调色剂耗尽,即需补充新调色剂。补充调色剂的操作非但麻烦,还常常造成周围环境污染。另外,对各部分或者各部件的维修单靠一位熟练的技师尚不能胜任,以致多数用户均感不便。

为消除这类缺点和不便,提出并使用一种成像系统,其中的诸如调色剂已耗尽的显影装置、使用寿命已满的载像部件都很容易更换,致使维护简单。它将载像部件、充电器、显影装置以及清洁装置整个装配成一个处理暗盒,这个暗盒可拆地装于成像系统中,有如美国专利第3,985,436号、第4,500,195号、第4,540,268号和第4,627,701号所述。

常规的处理暗盒中,将处理暗盒与成像系统电连接的触点置于该处理暗盒的一个纵向端部(驱动端)(如美国专利US4,591,258和US4,839,690)。

不过,在上述常规结构中,考虑到其电接点设于处理暗盒的驱动端,成像系统相应的电接点就须设于传动装置,如成像系统的传动齿轮附近,结果,触点的相对位置或者传动装置的相对位置就变得很复杂,使成本增加和/或系统的紧凑性不佳。

进而,当充电偏压触头、光敏元件接地触头以及显影偏压触头相对于成像系统在显影装置一侧或清洁装置一侧排成一组时,虽然各触头与相应接点之间的距离缩短,但因需在处理暗盒中配制长条电极,致使电极的形状变得复杂和/或处理暗盒尺寸变大。

本发明的目的在于提供一种处理暗盒和能够可卸地安装这种暗盒的成像系统,其中处理暗盒的触头与成像系统触头之间的电气连接可靠性得到改进。

本发明的另一目的是提供一种处理暗盒和能够可卸地安装这种处理暗盒的成像系统,其结构紧凑。

本发明的再一个目的是提供一种处理暗盒和能够可卸地安装这种处理暗盒的系统,其中可缩短处理暗盒中的电极接线,从而减少了装配步骤和工序的数目。

本发明的又一目的是提供一种处理暗盒和能够可卸地安装这种处理暗盒的成像系统,其中处理暗盒的电触头可靠地与成像系统电接点相接合,并缩短暗盒中电极的接线。

本发明还有一个目的是提供一种处理暗盒和能够可卸地安装这种处理暗盒的成像系统,改善了暗盒电触头与成像系统电接点间接触的可靠性,并做得很紧凑。

按照本发明的一个方面,提供一种可卸式安装在电子照相成像设备的主体中的处理暗盒,该暗盒包括:一个电子照相感光鼓;用于使感光鼓充电的充电装置;设置在感光鼓一侧的显影装置,其用于使用调色剂使感光鼓上形成的潜像显影;相对于显影装置设置在感光鼓相对侧的清洁装置,其用于从感光鼓清除调色剂;一个设置在感光鼓的一端附近,处于感光鼓的与清洁装置相同侧的充电偏压接受触头,其用于与主体的充电偏压供应触头接合以接受充电偏压,从而施加在充电装置上;一个设置在感光鼓的所述一端附近,处于感光鼓的与显影装置相同侧的显影偏压接受触头,其用于与主体的显影偏压供应触头接合以接受显影偏压,从而施加在显影装置上;以及一个设置在感光鼓的所述一端附近的感光鼓接地触头,其用于接合主体的一个接地触点,以便使感光鼓接地;其特征在于:所述感光鼓接地触头设置在感光鼓的与清洁装置相同侧,处于感光鼓的所述一端的纵向内侧。

按照本发明的另一个方面,提供一种电子照相成像设备,它包括一个主体和上述的处理暗盒,所述主体包括:用于在一个工作位置上可卸式支承所述处理卡盒的装置;一个充电偏压供应触头,其用于当处理暗盒处于所述工作位置时接合充电偏压接受触头并向其供应充电偏压;一个显影偏压供应触头,其用于当处理暗盒处于所述工作位置时接合显影偏压接受触头并向其施加显影偏压;以及一个接地触头,其用于当处理暗盒处于所述工作位置时接合感光鼓接地触头并使感光鼓接地。

图1是一种内部装有本发明优选实施例处理暗盒的复印机剖视图;

图2是该复印机托盘打开时的透视图;

图3是该复印机托盘闭合时的透视图;

图4是处理暗盒的纵向剖面图;

图5是该处理暗盒的透视图;

图6是该处理暗盒处于倒置时的透视图;

图7是该处理暗盒的上框架与下框架相分离时的分解剖面图;

图8是显示出内部结构的下框架透视图;

图9中显示出内部结构的上框架透视图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/92112283.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top