[实用新型]有机玻璃真空镀膜机

说明书

一种有机玻璃真空镀膜机，属于玻璃表面处理领域。

现有的真空制镜镀膜机，主要用于一些放气量较少的普通玻璃上镀膜，由于大面积有机玻璃放气量较大，热变形温度低，刚性低，因此现有的真空制镜镀膜机无法镀制大面积有机玻璃。现有的镀膜机蒸发源间呈正方形分布，这样镀出的膜层均匀性差，一般为400～1000A°±20％，蒸发源到基体的距离较近为100～180mm，在高温蒸发时，将会使基体温升过高，造成有机玻璃变形过大，此外装夹机构是采用下托上压、或下托左右压的形式，无法保证大面积有机玻璃在镀制过程中不变形。

本实用新型的目的是为了克服现有技术之不足，通过改进真空抽气系统，改变蒸发源排列方式，改变基体装夹方式，加大蒸发源至基体距离，减少蒸发源对有机玻璃的热影响，达到镀制大面积、高质量有机玻璃的目的。

本实用新型的目的是通过以下方案来实现的：所述有机玻璃真空镀膜机由镀膜室、真空系统、蒸发系统、电控系统及工件架组成。镀膜室内有蒸发源、可用于固定基体的挂梁和托脚，蒸发源间呈棱形分布，蒸发源与基体的间距为200～300mm，粘性胶带一端与挂梁连接，另一端可与基体粘接，镀膜室内的工作压力保持在10^－2～10^－3Pa。其工作原理是将膜材、基体（即有机玻璃）置于镀膜室内，由于有机玻璃在压力10^－2～10^－3Pa下放汽量较大，因此由真空系统抽除镀膜室内的气体，使室内的压力保持在上述压力范围内，从而减少有机玻璃释放的气体分子与受热蒸发的膜材分子间的碰撞，通过蒸发系统加热膜材使其蒸发成气体，在真空环境中蒸气分子可直接到达到被镀基体表面，由于基体温度较低，于是便凝结其上而成膜。蒸发源间呈棱形分布，可使膜材分子均匀地飞测到基体表面。上述蒸发源到基体的距离以及由挂梁、粘性胶带和托架组成的装夹机构，可保证基体在镀膜过程中不发生变形。

本实用新型与现有技术相比具有如下优点：抽气速率大，独特的装夹机构，使有机玻璃不变形，在保证膜层和附着力的前提下扩大蒸发源至有机玻璃距离，减少其热变形量，通过改变蒸发源分布形式使膜层均匀度提高了50％，膜层达到400～1000A°±10％。

附图说明

图1.    本实用新型结构示意图

图2.    本实用新型装夹部分结构图

2.（a.）正视图        2.（b.）侧示图

图3.    蒸发源分布图

图4.    有若干个镀膜单元的镀膜室侧视图

下面结合附图给出的实施例来详述本实用新型的具体细节。

如图1.，所述真空镀膜机的真空系统由滑阀泵（1）、罗茨泵（3）、高真空油增扩泵（8）、旋片真空泵（5）及真空阀门（2）、（4）、（6）、（7）、（9）、（10）组成。在大气压至低真空阶段由滑阀泵（1）和罗茨泵（3）工作，在10^－2～10^－3阶段，此有机玻璃放气量较大，蒸发时，膜材（18）蒸发，产生蒸气压，该阶段如抽气速率不够，便会使镀膜（11）压力升高，升至10^－2Pa以上便会影响膜层附着力，而本真空系统在10^－2～10^－3Pa压力范围抽气能力大，30分钟内可从大气压抽至5×10^－2Pa，因此可满足上述的要求，即保证该阶段的压力不至升高，从而保证了有机玻璃的镀膜质量。装夹机构如图2.，由挂梁（12）、粘性胶带（13）及托脚（15）组成，基体（即有机玻璃）（14），由粘性胶带（13）粘吊，挂在挂梁（12）上，靠自重悬挂，再由托脚（15）轻托，保证了大面积基体平面不变型。蒸发源分布结构呈棱形（如图3.），通过蒸发源（17）加蒸并蒸发膜材（18），使膜材（18）变成蒸汽，由蒸发源（17）表面逸出，飞测到被镀的基体（14）表面，凝结成膜。该分布结构所镀出的膜层与现有技术相比其均匀度提高50％，此外蒸发源（17）与基体（14）的间距为200～300mm，可保证基体不至受热发生变形。

本实用新型还可以通过在镀膜室（11）内增加若干个蒸发单元，实现一次镀制若干块基体（如图4.）。此时每个蒸发源可同时镀制相邻接的两块基体，从而可节省膜材，提高工效。