[发明专利]检测纺织试验材料中杂质的方法和装置无效
申请号: | 93105227.0 | 申请日: | 1993-03-17 |
公开(公告)号: | CN1057387C | 公开(公告)日: | 2000-10-11 |
发明(设计)人: | R·佐斯;H·旺晋弗勒 | 申请(专利权)人: | 泽韦格路瓦有限公司 |
主分类号: | G01N21/89 | 分类号: | G01N21/89;G01N21/47 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴增勇,马铁良 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 纺织 试验 材料 杂质 方法 装置 | ||
1.一种检测纺织试验材料中杂质的方法,其特征在于包括如下步骤:
由至少两个光源发射的光照射试验材料;
检测由第一个光源发出的光和由试验材料反射的光以产生反射信号;
检测由第二个光源发出的光和由试验材料衰减或反射的光以产生一个表示试验材料的直径变化的直径信号;和
将反射信号和直径信号相结合产生一个测量值;
检测测量值的变化以表示试验材料中有杂质存在。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,将反射信号和直径信号相结合的步骤包括从所述反射信号和直径信号导出一个商数以及检测测量值变化的步骤包括连续将测量值和平均值进行比较。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,包括使用直径信号来检测纱线缺陷从而清洁纱线。
4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,包括使用反射信号测量试验材料的发毛程度。
5.如权利要求2所述的方法,其特征在于,直径信号由测量试验材料一侧的反射光获得并且反射信号由测量另一侧的反射光获得。
6.如权利要求2所述的方法,其特征在于,直径信号由测量光传输密度和测量试验材料的遮光程度来获得。
7.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述平均值是通过在较长长度的试验材料上连续取平均值而测定的。
8.一种检测纺织试验材料中杂质的装置,其特征在于包括:
第一和第二光源,用于从至少两个不同方向照射试验材料;
用于接收和测量由第一光源发出的光和由试验材料反射的光的装置;
用于接受和测量由第二光源发出的光用于检测试验材料直径的装置;和
用于比较测量光的装置所测量的光,从而检测试验材料中的杂质。
9.如权利要求8所述的装置,其特征在于,所述光源包括两个发光器和所述接收和测量光的装置包括三个光接收器,其中两个光接收器位于试验材料的侧面,与所述两个发光器相对,用于检测发出的光,第三个光接收器位于测试材料的和发光器的同侧用于测量从试验材料反射的光。
10.如权利要求8所述的装置,其特征在于,所述光源包括位于试验材料的一侧的两个发光器和位于试验材料的另一侧的第三发光器,所述接收和测量光的装置包括位于测试材料一侧的光接收器,用于接收从两个发光器发出的光,该光是从测试材料反射的,和由第三个发光器发出的光,另外包括控制来自发光器的光将接受的发射光与接受的反射光分离的装置。
11.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的控制包括将发光器发射的光进行调制。
12.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的控制包括将发光器发射的光进行时分多路转换。
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