[实用新型]环状镜面板涂覆氮化钛设备

说明书

本实用新型属于金属抛光设备，特别是涉及一种环状镜面板涂覆氮化钛设备。

现有多弧源头镀氮化钛设备加工工件尺寸较小，（一般小于φ400毫米），原因是其真空工作室规格小，圆形一般为直径不大于1米，方形边长不大于1米，如按现有结构型式单一加大其真空工作室容积来镀制1220×3050平方毫米，的大型不锈钢镜面板，必须配备800扩散泵机组，其抽气速率不能小于230001／s，一方面成本过高，另一方面由于抽气速率过大，会引起所充入的反应气体压强极不稳定，也会造成真空工作室内反应气体分布不均匀，导致被镀工件表面色泽及成膜厚度不均匀，使合格率下降。

本实用新型的目的是提供一种成本低、加工工件尺寸大、结构简单的环状镜面板涂覆氮化钛设备。

本实用新型的技术解决方案是：一种环状镜面板涂覆氮化钛设备，由壳体3、装在壳体3上的弧源头2、真空抽气口4、门1、反应气体输入口6组成，其特征在于：壳体3呈圆环形状，壳体3内部为圆环形真空工作室7，壳体3上装有转动装置5。

所述的装在壳体3上的转动装置5由与壳体3相接的内部装有轴承8、轴承9、密封圈10、密封圈12、压套11及一端接有联轴器13另一端接有齿轮24的传动轴14的轴承箱15、与齿轮24相啮合的内齿圈22、与内齿圈22相接的内部装有可转动的与齿轮27相接的自转轴28的护套25、与固定杆32相接的与齿轮27相啮合的外齿圈29及支承内齿圈22的底圈21和滚动球33、上圈31和联接上圈31与内齿圈22的不锈钢镜面板23组成，固定杆32的另一端与壳体3相接。

本实用新型与现有技术相比具有成本低、结构简单、工件表面色泽均匀，镀膜厚度均匀、噪音小、耗能低、操作方便等优点。

图1是本实用新型的主视图；

图2是图1所示的本实用新型的俯视图；

图3是图1所示的本实用新型的左剖视图；

图4是图3所示的本实用新型转动装置的结构图。

下面结合附图及实施例对本实用新型做进一步描述：

一种环状镜面板涂覆氮化钛设备，由壳体3、装在壳体3上的弧源头2、真空抽气口4、门1、反应气体输入口6组成，其特征在于：壳体3呈圆环形状，壳体3内部为圆环形真空工作室7，壳体3上装有转动装置5。

所述的装在壳体3上的转动装置5由与壳体3相接的内部装有轴承8、轴承9、密封圈10、密封圈12、压套11及一端接有联轴器13另一端接有齿轮24的传动轴14的轴承箱15、与齿轮24相啮合的内齿圈22、与内齿圈22相接的内部装有可转动的与齿轮27相接的自转轴28的护套25、与固定杆32相接的与齿轮27相啮合的外齿圈29及支承内齿圈22的底圈21和滚动球33、上圈31和联接上圈31与内齿圈22的不锈钢镜面板23组成，固定杆32的另一端与壳体3相接。

如图3所示，壳体3、门1、真空抽气口4均采用不锈钢板制做，真空抽气口4与壳体3之间采用焊接形式，门1与壳体3之间采用合页联接，并用橡胶条密封。壳体3内部形成的环型真空工作室7外环直径为φ2300毫米，内环直径为1200毫米、容积为4立方米，即保证了容积小、加工工件尺寸大，又达到了抽气时间短，工作效率高的目的。

壳体3上的真空抽气口位于门1对面上方，与抽气机组相联。反应气体输入口6，位置选择在门1的两侧，如图2。反应气体（氩气、氮气）输入真空工作室7后，沿环的两侧向真空抽气口4处扩散，使得反应气体在弧源头2工作部位的分布比较均匀。

弧源头2分布在壳体3外部左右两侧，各以双层螺旋式排列，这样被镀工件在真空工作室7内任意一侧垂直方向上，都完全被蒸发源所蒸发的离子所覆盖，工件在真空工作室内旋转一周，被“扫描”两次。如果在其一侧某个弧源头工作中出现问题而无法引燃时，在其垂直位置上所出现的缺陷仍能够被另一侧该位置上的弧源头所补偿。

转动装置5中的传动轴14、齿轮24、内齿圈22、护套25、自转轴28、齿轮27、底圈21、滚动球33、轴承箱15、外齿圈29全部采用高速工具钢制造，轴承箱15与壳体3之间用绝缘材料制作的绝缘垫17和O型密封圈16绝缘和密封，传动轴14插入壳体3内部分套有绝缘套18，保证传动轴14的绝缘，在轴承箱15内传动轴14外套有密封圈10，密封圈12及压套11、保证密封。固定杆32与壳体3之间采用以上同样的方法绝缘和密封。底圈21与壳体3之间垫有绝缘垫20。

当联轴器13被带动旋转时，传动轴14，齿轮24一起转动，齿轮24带动内齿圈22旋转，由于外齿圈29固定，齿轮27、自转轴28即与内齿圈22公转又自转。工作时，如果工件较小，自转轴28上接有悬挂工件的杆，这样工件在壳体3内即与自转轴28自转，又与内齿圈22公转。如果是大型工件，将自转部分拆除只使用公转部分。