[发明专利]一种涂有二硼化钛涂层的坩埚及其制造方法无效
| 申请号： | 94115523.4 | 申请日： | 1994-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN1039247C | 公开（公告）日： | 1998-07-22 |
| 发明（设计）人： | 李殿国;刘万生;苏启;张虎寅 | 申请（专利权）人： | 冶金工业部钢铁研究总院 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;F27B14/10 |
| 代理公司： | 冶金专利事务所 | 代理人： | 侯文泰 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 涂有二硼化钛 涂层 坩埚 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种涂有二硼化钛涂层的坩埚，具有一带凹槽的高熔点金属坩埚本体，其特征在于：所述坩埚的凹槽内壁上涂覆有二硼化钛涂层，厚度为0.2-2mm，在所述坩埚本体的上壁表面部分或全部涂覆有三氧化二铝或二氧化硅绝缘保护层，厚度为：0.1-1.0mm。
2、一种用制备涂有二硼化钛涂层坩埚的方法，包括如下几个步骤：
(a)取适合于作坩埚的高熔点金属加工成带凹槽的坩埚本体；
(b)将二硼化钛涂覆于所述的坩埚凹槽的内壁上，直至涂覆于坩埚凹槽内壁上的二硼化钛达到0.2-2mm为止；
(c)将三氧化二铝或二氧化硅部分或全部涂覆于所述坩埚的上壁表面上，直至涂覆于坩埚上壁表面的三氧化二铝或二氧化硅达到0.1-1.0mm为止。
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