[发明专利]木酚素系化合物的制备方法

权利要求书

1．式(Ⅰ)化合物的制备方法：式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵和R⁶与下面所述的含义相同，其特征在于，在碱存在下，使式(Ⅱ)所示的内酯化合物式中，R²和R³各自是低级烷氧基，或者R²与R³一起形成亚烷基二氧基，R⁴是低级烷氧基或氢，R⁵和R⁶各自是低级烷基，与下式所表示的化合物反应，R⁷Cl式中，R⁷是三低级烷基甲硅烷基，然后使所得到的化合物与式(Ⅲ)所示的炔属化合物加成，得到式(Ⅳ)所示的化合物，式中，R¹是烷基、环烷基、环烷基低级烷基、芳烷基或可以任选地具有取代基的芳基，式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷的含义同上，将式(Ⅳ)化合物还原，制得上面式(Ⅰ)所示的化合物。

2．权利要求1所述的方法，其特征是，将式(Ⅳ)所示化合物中的三低级烷基甲硅烷氧基：OR⁷脱保护，然后还原所得到的化合物，制成式(Ⅰ)所示的化合物。

3．权利要求1或2所述的方法，其特征是，在酸存在下，使用金属或金属盐进行所述的还原。

4．权利要求1或2所述的方法，其中，R¹是(1)C₁-C₆烷基、(2)C₅-C₇环烷基、(3)C₅-C₇环烷基C₁-C₆烷基、或者(4)可以任选地被卤素、三卤甲基、低级烷氧基或低级烷基一取代或二取代的苯基。

5．权利要求4所述的方法，其中，R¹是被卤素、三卤甲基、低级烷氧基或低级烷基一取代的苯基。

6．权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，R²、R³和R⁴是甲氧基。