[发明专利]直接机加工凸出结构后向反射立方隅角制品及其制造方法无效
申请号: | 94193640.6 | 申请日: | 1994-10-20 |
公开(公告)号: | CN1040691C | 公开(公告)日: | 1998-11-11 |
发明(设计)人: | 杰拉尔德M·本森;肯尼斯L·史密斯;约翰C·凯林赫;马克E·加德纳 | 申请(专利权)人: | 美国3M公司 |
主分类号: | G02B5/124 | 分类号: | G02B5/124 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 张恒康 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接机 加工 凸出 结构 反射 立方 制品 及其 制造 方法 | ||
这是1993年10月20日提交的美国专利申请序号08/139,563的直接机加工的凸出结构后向反射立方隅角反射制品和其制造方法的继续部分。
本发明涉及具有棱柱后向反射单元的后向反射制品。
许多已知类型的后向反射制品是用各种方法制成的。一种普通类型的后向反射制品使用透明微球体。其上带有半球形后向反射器。该类型的后向反射镜例子已揭示在美国专利2,407,680(palmquist),美国专利3,190,178(Mckenzie)和美国专利4,025,159(McGrath)中。
另一种类型的后向反射制品包括结合一种或多种通常被称为立方隅角反射器那样的结构的棱柱形构造。使用立方隅角反射器类型反射单元的后向反射薄板是众所周知的。美国专利3,684,348(Rowland)揭示了该构造的例子。
后向反射立方隅角阵列的制造是通过使用不同技术制取的模具而完成的,这些不同技术包括称为针束和直接机加工的技术。使用针形束制取的模具是通过将各个端部具有立方隅角反射单元的制品件所形成的针束组合在一起而制成的,例如,某些针束阵列可精致地组合成各种针形结构状,但是,这些类型的阵列在形成较小的微立方体结构时变得很难制造。针束的例子在美国专利No3,926,402(海南等人)和美国专利No3,332,695(豪厄尔)中有所叙述。
直接机加工技术也是一般为人们所熟悉的划线技术,它包括切割一基底的部分以产生一相交的凹槽模型,以形成一些立方隅角反射单元。槽状基底被称之为原模,用此原模可形成一系列压痕,即复制件。在某些情况下,原模可用作后向反射制品,但是,复制件包括许多个受制件是更普遍地用作后向反射制品。直接机加工是一种用于制造小型微立方隅角阵列的原模的极佳方法。特别是小型的微立方隅角阵列有助于生产具有改进灵活性的薄复制件,正如连续滚轧薄片一样的物品。微立方体阵列也更有助于连续工艺制造。使用直接机加工方法制造大阵列的工艺比用其它技术更加容易。一种直接机加工方法揭示在美国专利No4,588,258(胡普纳)中。
一些后向反射制品由脊形结构组成。在针束领域中,这种类型的结构揭示在美国专利4,243,618(范阿纳姆),4,202,600(伯克等人),4,726,706(阿塔),4,208,090(海南),4,498,733(弗拉纳根)3,922065(舒尔兹)3,417,959(舒尔兹)中。美国专利No4,025,159(mcGrath)揭示了另一种后向反射制品的脊形结构,其中,主要是微球体或球形片构造。
在美国专利4,801,193(martin),4,618,518(Pricone)和5,171,624(Walter)叙述了其它类似于上述脊状结构。然而,这些专利仅揭示了脊状结构的形成与后向反射薄板中的毗邻立方体的形成无关,一般讲,这种结构被浇铸在薄板上,不是整体形成的,同时,立方体通过直接加工和复制成的。
本发明揭示一立方隅角制品的制造方法,它包括下列工序:提供一适于形成后向反射表面材料的可直接机加工的初始单元基底,通过在基底上直接机加工至少两组平行槽以形成一第一立方隅角单元阵列带,该第一立方隅角单元阵列带由若干初始基底中所含立方隅角单元的几何结构组成,产生一作为适于形成后向反射表面的附加单元基底的立方隅角单元阵列带复制件。然后,切除包括复制件的基底材料的一部分,以形成至少一个由深度至少为凹槽组所形成的立方隅角单元深度的复制件侧壁所界定的腔。复制复制件,产生一适于形成后向反射表面的附加单元直接机加工基底。此基底包括至少一个凸出部分,凸出部分具有在高度上为由初始平行凹槽所形成的立方隅角单元高度的侧壁。直接机加工至少一凸出部分,以形成一附加带,该附加带包括若干含有由至少两组平行凹槽所界定的立方隅角单元的几何结构。
本发明也涉及一种制造立方隅角制品的方法,它包括下述工序:提供一适于形成后向反射表面材料的初始单元直接机加工基底,通过在基底上直接机加工至少两组平行槽形成一第一立方隅角单元阵列带,该第一立方隅角单元阵列带由若干初始基底中所含立方隅角单元的几何结构组成。产生一作为适于形成后向反射表面的附加单元基底的立方隅角单元阵列带的复制件。继之,切除包括复制件的基底材料的一部分,以形成至少两个在深度上至少为凹槽组成形成的立方隅角单元深度的复制件侧壁所界定的交叉腔,而各腔至少包括一侧壁,侧壁按基本上等于任何其它交叉腔的最高深方式延伸入复制件中。
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