[实用新型]一种二氧化碳激光高反射镜无效
申请号: | 94217522.0 | 申请日: | 1994-07-28 |
公开(公告)号: | CN2215121Y | 公开(公告)日: | 1995-12-13 |
发明(设计)人: | 周风晴;李晓平;陈清明;卢宏;冯功和 | 申请(专利权)人: | 华中理工大学 |
主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08;H01S3/086;H01S3/139 |
代理公司: | 华中理工大学专利事务所 | 代理人: | 骆如碧 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二氧化碳 激光 反射 | ||
本实用新型涉及一种激光反射镜
高功率二氧化碳激光器在工业上的应用非常广泛,而激光谐振腔和激光光路传输元件是这些应用的关键技术之一。激光高反射镜是构成激光谐振腔和激光传输光路的关键元件,它包括谐振腔尾镜,多折腔的折迭镜以及激光束偏折反射镜等。传统的反射镜是以铜作基底,研磨抛光成光学表面以后再在其上真空蒸镀金反射层。这种反射镜的反射率在百分之九十八左右,性能比较稳定,传热好,缺点是热变形大,反射率还不够高,且镜面污染以后不能擦洗,特别是热变形严重影响激光光束质量。专利EP265912《特别用于二氧化碳激光的多层介质红外反射镜——具有高低折射率交替出现的四分之一波长光学厚度的膜堆并有表面保护》(Multi-dielectric infrared mirroresp.for carbon dioxide laser-has quarter-wave stack of films of alternately high and low re-fractive index with surface protection)。该专利公开的反射镜最后一层高折射率薄膜换成一种复合薄膜,即最后一层为零点九九五微未厚的硒化锌加上零点一微米厚的非晶硅保护层。这种设计具有具有非常好的性能但仍有一些不足之处,其一,四氟化钍是放射性材料,不利于环境保护及生产和使用人员的健康,其二,对可见光的反射率不高(非晶硅对可光不透,其反射率只有百分之五十左右),不利于用氦氖激光调整光路(特别是多折腔的光路),其三,非晶硅膜的制备需用等离子体辅助化学气相淀积的方法,难于在常规真空镀膜机内进行,因此,整个膜系要分两次在两处完成,使制造成本提高。
针对上述现有技术存在的缺点,本发明的任务是提供一种在上述现有技术中将氟化钇YF3代替四氟化钍CeF4,将氧化铈陶瓷代替非晶硅,然后再进行参数优化的二氧化碳激光高反射镜。
为达到上述发明目的,本实用新型采取以下技术措施(图1),反射镜以光学平面抛光的硅Si作为基底1,然后在此光学平面上真空蒸镀一层金Au或银Ag或钼Mo的金属反射层2(厚度为一千五百至二千埃),然后依次蒸镀二氧化碳激光波长十点六微米的四分之一波长光学厚度(等于二点六五微米)的氟化钇YF33,四分之一波长光学厚度的硒化锌ZnSe4,四分之一波长光学厚度的氟化钇YF35,最后是由硒化锌ZnSe6和氧化铈CeO27组成的四分之一波长光学厚度的复合层,其中氧化铈CeO2紧挨空气,其厚度为五百埃至一千埃。
本实用新型的优点是完全可以克服上述现有技术存在的所述的三个缺点,因此易于推广使用。
附图说明如下:
附图1为本发明二氧化碳激光高反射镜结构原理图
结合附图对本实用新型作进一步说明如下:
本实用新型以光学平面抛光的硅Si作为基底1,然后在此光学平面上真空蒸镀一层厚度为一千五百埃的银Ag反射层2,然后依次蒸镀一点九二微米厚度的氟化钇YF33,一点一三微米厚度的硒化锌ZnSe4,一点九二微米厚度的氟化钇YF35,最后是由硒化锌ZnSe6和氧化铈CeO27组成的复合层,氧化铈CeO2紧换空气。其中硒化锌ZnSe的厚度为一点零五微米,氧化铈CeO2的厚度为零点一微米。
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