[发明专利]具有微调游标的光掩模

权利要求书

1、一种光掩模，其包括：

一模区域和一限定模区域的划线区域；

一用于测量自动图形套准的第一图形；

一用于测量分步重复曝光系统的分辨率和聚焦的第二图形，其中第二图形为由矩形方框构成的分辨率线条；

一用于测量视觉图形套准的第三图形，

其特征在于，在划线之内限定一预定的区域，其中，第一，第二和第三图形形成在所述预定的区域内；第一图形为方框形图形，其投射在晶片的一位置，第二图形与第一图形相邻，第三图形包括多组，每组具有多个小方框图形；并且第一、第二和第三图形构成用于在半导体器件生产中测量各种特性的微调游标。

2、根据权利要求1的光掩模，其特征在于，所述第一，第二和第三图形聚集在100μm的范围内。

3、根据权利要求1的光掩模，其特征在于，所述第三图形为多个沿横纵坐标排列的小方框图形。

4、根据权利要求2的光掩模，其特征在于，所述第三图形绕第一和第二图形排列。

5、根据权利要求1的光掩模，其特征在于，所述第一图形的方框形图形在后续的曝光工艺中形成由矩形内方框和矩形外方框组成的两个方框，从而观察矩形内方框和矩形外方框的位置关系获得套准精度。