[发明专利]光记录介质无效

专利信息
申请号: 95116362.0 申请日: 1995-08-11
公开(公告)号: CN1140304A 公开(公告)日: 1997-01-15
发明(设计)人: 堀江通和;国友晴男;大野孝志;高田健一;水野裕宣 申请(专利权)人: 三菱化学株式会社
主分类号: G11B11/00 分类号: G11B11/00;G11B7/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 叶恺东,张志醒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种通过一个激光束的照射来记录、删除和读出信息的光记录介质包括:

依次沉积在形成了槽的透明衬底上的一个下介电保护层,一个相变型记录层,一个上介电保护层及一个金属反射层,其中

槽和脊两者均用作记录区域,

槽深(d)满足下列关系式(1):

            λ/7n<d<λ/5n             (1)

式中λ表示照射光的波长,n表示衬底的绕射率,及

槽宽(GW)和脊宽(LW)满足下列关系式(2):

            0.1μm<GW<LW              (2)

2.按照权利要求1的光记录介质,其中的脊宽(LW)满足下列关系式(3):

            0.62(λ/NA)<LW<0.80(λ/NA)(3)

式中NA代表透镜的数字光圈。

3.按照权利要求2的光记录介质,其特征是光记录介质的未记录区反射的光与已记录区反射的光之间的相位差(α)满足下列关系式(4):

                -π<α<0            (4)以及

未记录区的反射率(R1)与已记录区的反射率(R2)满足下列关系式(5):

                R2<R1                (5)

4.按照权利要求2的光记录介质,其特征是,从光记录介质的未记录区反射的光与已记录区反射的光之间的相位差满下关系式(6):

                0<α<π             (6)并且

未记录区的反射率(R1)与已记录区的反射率(R2)满足下列关系式(7):

                R2>R1                (7)

5.按照权利要求2的光记录介质,其特征是脊宽(LW),槽宽(GW)以及相邻槽之间的距离(槽距(PG)=LW+GW)满足以下关系式(8):

            0.02≤(LW-GW)/PG≤0.3     (8)

6.按照权利要求2的光记录介质,其特征是槽深为40至80nm,而槽宽满足下列关系式(9):

            0.15(λ/NA)<GW<0.5(λ/NA)      (9)

7.按照权利要求1的光记录介质,其特征是,光记录介质的未记录区反射的光与已记录区反射的光之间的相位差(α)满足下列关系式(4):

            -π<α<0               (4)以及

未记录区的反射率(R1)和已记录区的反射率(R2)满足下列关系式(5):

                R2<R1         (5)

8.按照权利要求1的光记录介质,其特征是来自光记录介质的未记录区的反射光与来自已记录区的反射之间的相位差(α)满足下列关系式(6):

                0<α<π           (6)并且

未记录区的反射率(R1)与已记录区的反射率(R2)满足以下关系式(7):

             R2>R1          (7)

9.按照权利要求1的光记录介质,其特征是脊宽(LW),槽宽(GW)和槽距(PG)满足以下关系式(8):

             0.02≤(LW-GW)/PG≤0.3    (8)

10.按照权利要求1的光记录介质,其特征是记录层的熔点低于700℃,并且记录层的结晶温度不低于150℃。

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