[发明专利]δ型阴丹酮蓝颜料及其制造方法无效
申请号: | 95191018.3 | 申请日: | 1995-08-15 |
公开(公告)号: | CN1090657C | 公开(公告)日: | 2002-09-11 |
发明(设计)人: | 鹰尾长幸;鸳海功;北见清美 | 申请(专利权)人: | 大日本油墨化学工业株式会社 |
主分类号: | C09B67/48 | 分类号: | C09B67/48;C09B67/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘元金,杨丽琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 型阴丹酮蓝 颜料 及其 制造 方法 | ||
1.δ型阴丹酮蓝颜料,其平均原生粒径不大于0.5μm。
2.δ型阴丹酮蓝颜料,其中以1比20的重量比含有δ型阴丹酮蓝颜料和二氧化钛颜料,由颜料占固形物比例为9.6%(重量)的蜜胺醇酸树脂涂料形成的涂膜测色时色相角H在274~283的范围,且彩度C*值为20或以上。
3.δ型阴丹酮蓝颜料,其中以1比20的重量比含有δ型阴丹酮蓝颜料和二氧化钛颜料,由颜料占固形物比例为9.6%(重量)的蜜胺醇酸树脂涂料形成的涂膜测色时色相角H在274~281的范围,且彩度C*值为20或以上。
4.按照权利要求1-3中任何一项所述的δ型阴丹酮蓝颜料,其中含有60%(重量)或以上的如下通式所示阴丹酮蓝,式中X1、X2、X3和X4各自独立地表示氢原子或卤原子。
5.由权利要求1-3中任何一项所述的δ型阴丹酮蓝颜料分散在高分子物质中而形成的颜料分散体。
6.权利要求1-3中任何一项所述δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含在搅拌下将还原产物加入到含有氧化剂和溶剂的氧化液中,从而使该还原产物氧化,其中所述还原产物具有如下通式所示的骨架,式中X1、X2、X3和X4各自独立地表示氢原子或卤原子。
7.按照权利要求6所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,其中使用还原电位-700mV或以下的碱性水溶液,而且在碱性水溶液中的还原是在40~100℃的范围内进行的。
8.δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含将具有权利要求6所述骨架的化合物还原而得到的δ型阴丹酮蓝颜料进行湿式研磨,然后在搅拌下将还原产物加入到含有氧化剂和溶剂的氧化液中,从而使该还原产物氧化。
9.按照权利要求8所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,其中湿式研磨是在有机溶剂、水、或有机溶剂与水的混合液中进行的。
10.按照权利要求8所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含在湿式研磨时添加含有卤原子、邻苯二甲酰亚胺基、二烷氨基甲基、氨磺酰、氨磺酸盐基或磺酸金属盐基的有机色素衍生物。
11.按照权利要求9所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含在湿式研磨时添加含有卤原子、邻苯二甲酰亚胺基、二烷氨基甲基、氨磺酰、氨磺酸盐基或磺酸金属盐基的有机色素衍生物。
12.按照权利要求8所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含在湿式研磨时添加高分子分散剂。
13.按照权利要求9所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含在湿式研磨时添加高分子分散剂。
14.按照权利要求10所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含在湿式研磨时添加高分子分散剂。
15.按照权利要求11所述的δ型阴丹酮蓝颜料的制造方法,包含在湿式研磨时添加高分子分散剂。
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