[发明专利]用于处理光热敏元件的设备，系统和方法

权利要求书

1.一种用于处理光热敏元件的热处理机，其中，上述的光热敏元件以一输送速度被输送，并且上述的热处理机包括：

一可移动的加热构件，其位置要设定成能接纳上述的光热敏元件并将上述光热敏元件至少加热至一临界显影温度，并保持一停留时间，以在上述光热敏元件上显影出图像；和

多个可旋转的导向构件，它们处于与上述加热构件相邻的导向位置，以引导上述光热敏元件，并在上述光热敏元件上作用以不大于200克每厘米上述光热敏元件宽度的总偏压力，使之贴靠在上述加热构件上；

其特征为，上述加热构件是可移动的，并且上述导向构件可以以与上述光热敏元件的上述输送速度几乎匹配的速度旋转。

2.如权利要求1所述的热处理机，其特征为，上述导向构件中至少有一个包括一用于提供第一偏压力的偏压装置，上述导向构件的重量和上述导向构件相对于上述加热构件的位置提供了第二偏压力，上述总的偏压力包括上述第一偏压力和上述第二偏压力，并且上述偏压装置可以选择成能补偿由上述导向构件的上述位置而产生的上述第二偏压力。

3.如权利要求1所述的热处理机，其特征为，所述加热构件包括一可旋转的圆筒，所述导向构件包括可旋转的辊子，上述可旋转的辊子中的至少一个有一第一端和一第二端，每个导向构件进一步包括一用于朝上述加热构件偏压对应辊子的上述第一端的第一偏压装置和一用于朝上述加热构件偏压对应辊子的上述第二端的第二偏压装置。

4.如权利要求1所述的热处理机，其特征为，上述导向构件包括用于从上述加热构件上去掉静电的装置。

5.如权利要求1所述的热处理机，它进一步包括一其位置与上述加热构件相邻的导轨，用于从上述加热构件引导上述光热敏元件，并以10至50度的角将上述光热敏元件从上述加热构件上引开。

6.如权利要求1所述的热处理机，其特征为，所述可移动的加热构件包括一具有某一厚度和导热率的弹性层，用于接触上述光热敏元件，上述弹性层要足够厚，以使外来的颗粒可以被压入上述弹性层中，以减少上述图像中因由上述外来颗粒引起的传热不足而产生的图像缺陷，上述弹性层还要足够薄和有足够的导热性，以使上述弹性层能向上述光热敏元件传送足够的热量，从而按上述输出率热显影上述光热敏元件。

7.如权利要求6所述的热处理机，其特征为，上述加热构件包括一其位置在上述弹性层下面的支承构件，上述弹性层的上述厚度至少为0.0254cm。

8.如权利要求6所述的热处理机，其特征为，在上述加热构件上的上述弹性层表面具有小于6.3μm的表面粗糙度。

9.如权利要求6所述的热处理机，其特征为，上述弹性层的导热率至少为0.29瓦每平方厘米摄氏度。

10.如权利要求1所述的热处理机，其特征为，上述导向构件可在一封闭位置和一开启位置之间相对于上述加热构件定位，在上述封闭位置，上述导向构件可以贴靠着上述加热构件引导上述光热敏元件，在上述开口位置，上述导向构件提供了更容易接近上述加热构件的出入口。

11.如权利要求10所述的热处理机，它进一步包括一盖住上述加热构件的盖子，上述盖子与用于在上述封闭位置和开启位置之间移动上述导向构件的上述导向装置结合。

12.一种包括权利要求1所述的热处理机的设备，并进一步包括一成像装置，其特征为，上述成像装置能将数据转换成图象式的辐射图案并用上述辐射线使上述光热敏元件曝光，以在上述光热敏元件上产生图象。

13.如权利要求12所述的设备，其特征为，上述成像装置包括：

一激光扫描器，它将上述光热敏元件在上述辐射线中曝光；和

一板件，将其定位在能在被上述激光扫描器曝光时接纳上述光热敏元件的地方，上述板件与上述激光扫描器摆动地结合，以使上述板件与上述激光扫描器一起振动，减少由上述激光扫描器的振动引起的曝光缺陷。

14.如权利要求12所述的设备，它进一步包括一位于上述成像装置和上述热处理机之间，用以同时将第一光热敏元件送入上述成像装置，并将第二光热敏元件送出上述成像装置，使之到达上述热处理机的双向胶片分级机构。