[发明专利]用于处理光热敏元件的设备，系统和方法

说明书

本发明涉及用于处理光热敏元件的设备、方法和系统，更具体一些，涉及用于对光热敏元件进行曝光、显影和冷却的设备、方法和系统。

光热敏成像技术是一种已经确定的成像技术。在光热敏成像技术中，分两步处理光热敏元件。第一步是根据图象方式使光热敏元件在照射光下曝光，从而在光热敏元件上产生一潜像。这一步骤常被称为成像。第二步是将光热敏元件加热到显影温度，保持足够的时间，以将潜像热显影成为可见的图像。这一步骤常被称为显影或简称为处理。

显影的装置与方法是众所周知的，它包括使光热敏元件与一被加热的板、滚筒或带(有时称为无端带)接触，向光热敏元件吹送热空气，将光热敏元件浸在热的惰性液体中，以及将此元件在元件对其波长不光敏的辐射能中曝光。

采用这些熟知的装置和方法显影的光热敏元件常常有不平的或不均匀的图像密度，图像畸变和/或表面磨损缺陷等。图象密度的不均匀缺陷是由于例如被加热构件上的表面变化，在光热敏元件或被加热构件上有异物，以及不能使在显影中产生的挥发性物质充分排气而在显影过程中产生的。图像畸变可由于光热敏元件在加热和/或冷却时，光热敏元件的基材发生不受控制的尺寸变化而产生。表面磨损或擦伤的产生是由于将光热敏元件拖过加热装置中的静止元件。在很多应用如课本和曲线图中，这些缺陷可能会被接受。但是，医学、工业、印刷及其它成像应用的使用者则要求均匀而高质量的图像。

尤其是，由于许多带子可以有花纹或接缝，使用带子显影的在光热敏元件上的图像会得到一种不能被接受的、对应的显影花纹或接缝痕迹。虽然滚筒能有效地利用空间并可具有没有带子花纹和接缝的表面，但是滚筒要求光热敏元件沿着一能导致翘曲的弯曲的路径。此外，滚筒要求光热敏元件沿弯曲的路径被导向，而该弯曲的路径能在光热敏元件上引起表面损伤。还有，用许多熟知的滚筒装置或其它加热装置加热光热敏元件，则可在加热光热敏元件时产生褶皱。

因此，需要有一种能提供均匀而且质量高的图像的热处理机。还需要用辅助装置和光热敏元件配合这种热处理机，以提供能同时优化均匀性和图象质量的设备、系统和方法。

除了均匀性和图象质量，还需要有这样一种处理机和有关的设备、系统和方法，它们能提供增大的物料通过速率。能成像和显影各种图幅尺寸，也是所要求的特性，而这一特性目前在高质量光热敏成像技术中是不能获得的。虽然公知的光热敏成像设备、系统和方法在环保方面优于湿式显影系统，但仍然有重大的问题未被解决。

本发明提供了一种热处理机，以及其它采用热处理机或与其联合使用的其它设备、系统和方法，以着手和克服这些问题。

本发明的一个实施例包括一热处理机，它适用于在光热敏元件上热显影图像。光热敏元件以某种输送速度输送。此热处理机包括一可动的加热构件，它被设置成能接纳光热敏元件并将光热敏元件至少加热到一临界显影温度并保持一停留时间，以在光热敏元件上显影图像。光热敏元件还包括多个可旋转的导向构件，其位于与加热构件相邻的导向位置上，用以通过在光热敏元件上施加一不大于200克每厘米光热敏元件宽度的偏压力，来引导贴靠在加热构件上的光热敏元件。加热构件是可以移动的，而导向构件则可以以几乎与光热敏元件的输送速度匹配的速度旋转。

加热构件可包括一具有一定厚度和导热率的弹性层，用于与光热敏元件接触。弹性层要足够厚，以使外来的颗粒能被压入弹性层中，以减少图像中可由外来颗粒所引起的传热不足而产生的图像缺陷。还有，弹性层又要足够薄并且充分地导热，以便弹性层能向光热敏元件传送足够的热量，从而按物料通过速率热显影光热敏元件。

导向构件可以充分地隔开，以使在可旋转的辊子之间的部分光热敏元件膨胀和收缩。导向构件可相对于上述加热构件定位在一封闭位置与一开启位置之间，在封闭位置，上述导向构件可以引导抵靠在上述加热构件上的上述光热敏元件；在开启位置，上述导向构件提供接近上述加热构件的更大的出入口。导向构件可与一盖子结合，以便当从加热构件上提升起该盖子时，使导向构件从封闭位置移至开启位置。

热处理机可以是进一步包括一成像装置的设备的一部分，该成像装置能将数字转换成图像式辐射图案。成像装置可将光热敏元件暴露在照射光下，以在光热敏元件上产生图像。成像装置能产生不超过百分之二的曝光偏差。热处理机能将光热敏元件加热至显影温度，以将潜像显影成可见的图像，该温度在整个光热敏元件上的变化不超过2°F。在0.50至3.0光密度的范围内，在规定的光密度下，在光热敏元件上产生的可见像由设备而引起的变化不超过0.20光密度。