[发明专利]辐照组件及其应用和自清洗方法

权利要求书

1、用于流体处理系统的辐照组件，该组件包括：一个用于在流体处理系统中固定该组件的支件；至少一个从支件上伸出的辐照部件；和至少一个与辐照源部件相连的振动发生器。

2、权利要求1的辐照组件，其中的辐照部件是辐照源部件。

3、权利要求2的辐照组件，其中振动发生器配置在支件和至少一个辐照源部件之间。

4、权利要求2的辐照组件，其中至少一个辐照源部件包括一个紫外线灯。

5、权利要求4的辐照源组件，其中辐照源部件还包括在紫外线灯周围的套筒，该套筒限定了紫外线灯和被处理流体之间的绝缘间隙。

6、权利要求5的辐照源组件，其中套筒具有在支件远侧的封闭端和与支件密封连接的开口端。

7、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器包括至少一个配置在支件连接面和套筒开口端之间的环形压电振子。

8、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器包括多个互相粘附在一起且配置在支件邻接表面和套筒开口端之间的环形压电振子。

9、权利要求2的辐照源组件，其中支件包括至少二个与其连接的紫外线灯。

10、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器能在约1kHz至约100kHz的频率下工作。

11、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器能在约10kHz至约15kHz的频率下工作。

12、权利要求2的辐照源组件，其中支件包括向辐照源部件和振动发生器提供电源所通过的导管装置。

13、权利要求1的辐照组件，其中辐照部件是辐照传感器部件。

14、一种从辐照组件上清除污物的方法，该方法包括下列步骤：

(i)将辐照组件的至少一部分浸在流体中，和(ii)使辐照组件在足以基本上阻止污物附着到至少一个辐照源上的频率下振动。

15、权利要求14的方法，其中频率为约1kHz至约100kHz。

16、权利要求14的方法，其中频率为约10kHz至约20kHz。

17、权利要求14的方法，其中频率为约10kHz至约15kHz。

18、权利要求14的方法，其中间断地施加频率。

19、权利要求14的方法，其中连续地施加频率。

20、权利要求14的方法，其中还包括使流体受辐照的步骤。

21、权利要求14的方法，其中辐照是紫外线辐照。

22、流体处理系统，其中包括流体入口、流体出口和配置在流体入口和流体出口之间的一个流体处理区以及至少一个辐照源组件，该组件包括一个支件、至少一个从支件伸进流体处理区的辐照源部件和至少一个与辐照源部件相连的振动发生器。

23、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器被配置在支件和至少一个辐照源部件之间。

24、权利要求22的流体处理系统，其中至少一个辐照源部件包括紫外线灯。

25、权利要求24的流体处理系统，其中辐照源部件还包括在紫外线灯周围的套筒，该套筒限定了紫外线灯和被处理流体之间的绝缘间隙。

26、权利要求25的流体处理系统，其中套筒具有在支件远侧的封闭端和与支件密封连接的开口端。

27、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器包括至少一个配置在支件连接表面和套筒开口端之间的环形压电振子。

28、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器包括多个互相粘附在一起并配置在支件连接表面和套筒开口端之间的环形压电振子。

29、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器能在约1kHz至约100kHz的频率下工作。

30、权利要求22的流体处理系统，其中支件包括为辐照源部件和振动发生器提供电源所通过的导管装置。