[发明专利]辐照组件及其应用和自清洗方法

说明书

                      技术领域

本发明的一个方面涉及从辐照组件上清除污物的方法。

本发明的另一个方面涉及用于流体处理系统的辐照组件，更具体而言，涉及自清洗式辐照源组件。

本发明的另一个方面还涉及流体处理系统，更具体而言，涉及自清洗式流体处理系统。

本发明的另一个方面还涉及在包括辐照源组件的流体处理系统中处理流体的方法，更具体而言，涉及在流体处理期间采用避免在辐照源组件上形成污物的方式处理流体的方法。

                      技术背景

流体处理装置和系统是众所周知的。例如美国专利4,482,809、4,872,980、5,006,244和5,418,370(全都转让给本发明的受让人)，这些专利公开的内容都并入本发明作为参考。这些专利都叙述了自流式加料的流体处理系统，该系统采用紫外线(UV)辐照使在流体中存在的微生物失活。

在’809、’980和’244专利中所述的装置和系统通常包括几个UV灯，其中每个UV灯都安装在延伸到灯架的二个支承臂之间的套筒里。该灯架浸在被处理的流体里，然后根据要求辐照该流体。对被辐照流体的辐射强度由流体与灯的距离确定。可采用一个或多个UV传感器监测这些灯的UV输出功率，且通常利用液位控制闸门等方法在处理装置的下游控制流体的液位使其达到一定的高度。

然而，上述这些系统存在一些缺点，UV灯外围的套筒经过一定时间会被外来物质所污染粘附，这些物质妨碍套筒向流体透射UV辐射的能力，污染的程度取决于所处理流体的质量。如果发生了污染，可根据历史上的运行资料或通过UV传感器测定来确定必须用手工清洗套筒除去污染物的时间间隔。无论所采用的UV灯架是敞开式的流槽系统还是封闭系统，清洗套筒都是不现实的。

在敞开式流槽系统中，通常从流槽上拆下包括套筒在内的组件，再将其浸泡在一个装有适当清洗液体的容器里。在封闭式系统中，必须使该装置停止运行，然后装入适宜的清洗液体或采用对敞开式流槽系统所述的方法拆下灯和套筒，对套筒进行清洗。在这两种类型的系统中操作者都必须接受处理系统长时间的停机，和/或投入很多的额外资金，花费在具有适当控制装置的相当长的系统上，以便从被清洗的系统转移流体流。

’370专利所述的系统在技术上是非常先进的，它避免了’809，’980和’244专利的许多缺点。更准确地说，在它的一个实施方案中，’370专利所述的系统包括在流体处理系统中配置辐照源部件的清洗装置。该清洗装置包括与辐照源部件外表的一部分相接的清洗套筒，且该套筒在缩回和伸出位置之间是可移动的。在缩回的位置上，辐照源部件的前部浸泡在被处理的流体流中。在伸出的位置上，辐照源部件的前部被清洗套筒所遮盖。清洗套筒包括一个与所述辐照源部件前部吻合的腔，且其中装有适宜的清洗溶液，以便从辐照源部件的前部除去所不需要的物质。

虽然’370专利所述的清洗装置在技术上是先进的，但制作它既比较复杂又比较昂贵，要建造成套的流体处理设备，需要投入较多的资金。而且在某些设备中，该装置使被处理的流体流产生较大的水力压头损失。因此希望有一种能保持’370专利所述清洗装置的特性，同时在构造上既比较简单又比较便宜的设备。

                     发明内容

本发明的一个目的是提供一种从辐照组件上清洗污物的新颖方法。

本发明的另一个目的是提供一种新型的辐照组件。

本发明的另一个目的是提供一种新型的流体处理装置，该装置避免或减少了现有技术的至少一个缺点。

本发明的另一个目的是提供一种新颖的处理流体的方法，该方法避免或减少了现有技术的至少一个缺点。

因此，本发明的一个方面提供一种从辐照组件上清洗污物的方法，该方法包括以下步骤：

(I)将辐照组件的至少一部分浸在流体里；和

(ii)使辐照组件在足以基本上阻止污物附着到辐照组件上的频率下振动。

本发明的另一个方面提供一种用于流体处理系统的辐照组件，该组件包括：

一个支件，用于在流体处理系统中固定该组件；

至少一个从支件上伸出的辐照部件；和

至少一个与辐照部件相连的振动发生器。

本发明的另一个方面还提供一种流体处理系统，其中包括流体入口、流体出口和配置在流体入口和出口之间的流体处理区以及至少一个辐照组件，该组件包括一个支件、至少一个从支件伸进流体处理区的辐照部件和至少一个与辐照部件相连的振动发生器。