[发明专利]淀积非常坚固的保护涂层的方法

权利要求书

1.一种采用等离子体增强的化学气相淀积技术在至少一部件上淀积基本上不含氢，主要具有四面体结构，且基于碳和氮、基于钛、氮和碳或基于硼和氮的保护性涂层的方法，包括将含有待淀积元素的前体气引入真空室中，该真空室装有金属支座，该支座与产生直流或交流电且在射频或微波范围运行的发电机连接，支座上放置待涂覆部件，在该室内保持放电，以便使这部件的温度升高到150-400℃，在电力和压力条件下使前体气受物理和化学作用被激发并电离成等离子体形式，以便通过离子轰击使保护性涂层淀积在这部件上，其特征在于该前体气含有氮气、一种等离子体内提供解离的氢的气体以及硼或它的一种化合物；其特征在于，添加到前体气中的是10-70％的氦和氩的混合物或10-70％的氖，其作用是同时大大激发和解离氮和氢；其特征还在于选择供给前体气的各原子的能量以便以六角形结构为代价，涂层具有最大数量的四面体结构，以及供给前体气的各碳原子的能量为50-150eV。

2.根据权利要求1的淀积保护性涂层的方法，其特征在于该前体气含有10-70％的氮和一种或多种作为提供氢的气体的烃；以及其特征在于供给上述前体气的各碳原子的能量为100-150eV。

3.根据权利要求1的淀积保护性涂层的方法，其特征在于该前体气含有钛、10-70％的氢以及一种或多种烃。

4.根据权利要求1保护性涂层的方法，其特征在于添加到前体气中的是起着催化剂作用以分开CH型键的0.5-5％的硼，以便通过与原子氢和原子氮再结合而将氢除去并促进CN键的生成。

5.根据权利要求1的保护性涂层的方法，其特征在于该前体气含有10-70％的氢和选自二硼烷、氯化硼和三甲基硼的硼化合物。

6.根据权利要求1的保护性涂层的方法，其特征在于选择真空室内的电力和压力条件，以便产生非碰撞屏蔽的等离子体。

7.根据权利要求1的保护性涂层的方法，其特征在于所述发电机在微波范围运行。

8.根据权利要求1的淀积保护性涂层的方法，其特征在于将脉动重叠在发电机供给的电流上，以使该等离子体只在处理时间的周期部件被激活。