[实用新型]薄膜电容式湿敏装置无效

专利信息
申请号: 95222307.4 申请日: 1995-09-14
公开(公告)号: CN2243659Y 公开(公告)日: 1996-12-25
发明(设计)人: 孙晴;张树琨;赵国强 申请(专利权)人: 电子工业部第四十九研究所
主分类号: G01N27/22 分类号: G01N27/22
代理公司: 哈尔滨专利事务所 代理人: 张学敏
地址: 150001 黑*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 电容 式湿敏 装置
【说明书】:

本实用新型属传感装置领域,具体为一种薄膜电容式湿敏装置。

目前经中国专利局CD光盘查新、检索发现有这方面的装置,如专利号91223530.6名称:“耐高湿分子湿敏元件”,其不足之处在于不能做得很小,一般为4×6mm左右,电容采用两极板串联式,现有电容元件的有效面积只是实际面积的1/4,而基础电容量却不大,从而成本高。

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、成本低廉,在相同硅片上制作元件量大的薄膜电容式湿敏装置。

本实用新型的目的是这样实现的:芯片粘接在管座上,光刻下电极在上电极引出中,上电极引出为形,绝缘层上面是光刻下电极和上电极引出,下面是硅基片。感湿膜上面是光刻上电极,下面是光刻下电极和上电极引出,芯片是由硅基片、绝缘层、光刻下电极、上电极引出、感湿膜、光刻上电极组成,内引线与上电极引出和下电极连接。

本实用新型的优点在于:结构简单、成本低廉,可大规模批量生产,基础电容量大,体积小,安装使用方便。

图1为本实用新型结构原理主视示意图;

图2为本实用新型结构原理主视图的A-A剖面示意图;

图3为本实用新型结构原理分解示意图;

图3(a)为本实用新型结构原理光刻上电极示意图;

图3(b)为本实用新型结构原理感湿膜示意图;

图3(c)为本实用新型结构原理光刻下电极、上电极引出示意图;

图3(d)为本实用新型结构原理硅基片、绝缘层示意图;

图4为本实用新型结构原理安装示意图;

图4(e)为本实用新型结构原理管帽示意图;

图4(f)为本实用新型结构原理管座示意图。

下面结合附图详述本实用新型最佳实施例:芯片(11)粘接在管座(8)上,光刻下电极(3)在上电极引出(4)中,上电极引出(4)为形,绝缘层(2)上面是光刻下电极(3)和上电极引出(4),下面是硅基片(1),感湿膜(5)上面是光刻上电极(6),下面是光刻下电极(3)和上电极引出(4),芯片(11)是由硅基片(1)、绝缘层(2)、光刻下电极(3)、上电极引出(4)、感湿膜(5)、光刻上电极(6)组成,内引线(7)与上电极引出(4)和下电极(3)连接。内引线与外引线连接,管帽与管座连接,避免机械损伤,增加抗震性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子工业部第四十九研究所,未经电子工业部第四十九研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/95222307.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top