[发明专利]抗反射膜无效
| 申请号： | 96112014.2 | 申请日： | 1996-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN1141442A | 公开（公告）日： | 1997-01-29 |
| 发明（设计）人： | 巴雷特·里贝;石川博一 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杜日新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 | ||
【权利要求书】：
1.一种沉积在支撑层上的抗反射膜，所说膜包括：两相邻层，靠支撑层的为第一层，其余为第二层，所说第一层由吸收光的导电物质组成，所说第二层由折射率不高于2.0的物质组成，其中，如果任选短波长为λv，任选长波长为λr，所说第一层对波长λv的光折射率和消光系数分别为nv和kv，所说第二层对波长λ的光折射率和消光系数分别为nr和kr，nv大于nr并且kv小于kr，其抗反射性质出现在波长λv和λr上和λv和λr之间的点上。
2.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层沉积在塑性材料支撑层上。
3.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层沉积在沉积于塑性材料支撑层上的硬质涂层上。
4.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层是在氧分压不高于50％的氧存在下形成的。
5.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层是由混合有导电氧化物的金属材料形成的。
6.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层是由氮化钛形成的。
7.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层是由混合有作为杂质的钨的氮化钛形成的。
8.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层由氧氮化锆形成的。
9.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第二层是由二氧化硅形成的。
10.根据权利要求1的抗反射膜，其中所说第一层的nv大于(nr＋0.4)且kr大于(kv＋0.4)。
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