[发明专利]低收缩性光固化涂层材料及其制法和用途无效

专利信息
申请号: 96114019.4 申请日: 1996-12-31
公开(公告)号: CN1058038C 公开(公告)日: 2000-11-01
发明(设计)人: 王尔鉴;李妙贞;聂俊;何勇 申请(专利权)人: 中国科学院感光化学研究所
主分类号: C09D4/00 分类号: C09D4/00
代理公司: 上海华东专利事务所 代理人: 李柏
地址: 1001*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 收缩 光固化 涂层 材料 及其 制法 用途
【权利要求书】:

1.一种低收缩性光固化涂层材料,包括光聚合性不饱和螺环化合物,丙烯酸酯类予聚体,多官能团丙烯酸酯交联剂及反应性稀释剂,光引发剂,其它助剂,其特征在于(重量百分数):

    光聚合性不饱和螺环化合物                         20~50%

    丙烯酸酯类予聚体                                 20~30%

    多官能团丙烯酸酯交联剂及反应性稀释剂               10~30%

    光引发剂                                         2~6%

    其它助剂                                         0.1~1.5%

    填料和染料                                       0~15%其中,光聚合性不饱和螺环化合物是:

【1】不饱和三氧螺环化合物(SP1)

【2】不饱和四氧螺环化合物(SP2)

【3】不饱和间-四氧螺环化合物(SP3)各式中:n:1-4Z:烷基、烷氧基、环烷基、芳基、芳烷基,A:丙烯基、乙烯基、丙烯酰基。

2.根据权利要求1所述的低收缩性光固化涂层材料,其特征在于所述的引发剂为自由基型或阳离子与自由基混杂型。

3.根据权利要求2所述的低收缩性光固化涂层材料,其特征在于所述的自由基型光引发剂为:

R1,R2,R3,R4,R6:氢、烷基、烷氧基;

R5,R7:氢、烷基;

R8,R9,R10:氢、烷基、烷氧基、烷胺基、卤素;

X:硫、氧、氮;

阳离子与自由基混杂型光引发剂为:

R11,R12,R13:氢、烷基、烷氧基、烷硫醚、芳硫醚;

R14:烷基、环烷基;

X-:Cl-、BF4-、AsF6-、PF6-、SbF6-、ClO4-

4.根据权利要求1所述的低收缩性光固化涂层材料,其特征在于所述的丙烯酸酯类予聚体是环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的低收缩性光固化涂层材料,其特征在于所述的交联剂是三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯。

6.根据权利要求1所述的低收缩性光固化涂层材料,其特征在于所述的稀释剂是单官能团丙烯酸酯类。

7.根据权利要求1-6所述的低收缩性光固化涂层材料的制法,其特征在于将多官能团丙烯酸酯交联剂及反应性稀释剂加入装有搅拌器和加热设备的反应器中,开动搅拌并升温至30-40℃,然后加入光引发剂,使之溶解,待全部溶解后,再顺次加入光聚合性不饱和螺环化合物、丙烯酸酯类予聚体和各种助剂,充分搅拌混合均匀即得低收缩性光固化涂层材料;若制备有色涂层,还需加入填料和颜料,并经研磨机研磨至细度为3~5微米即可。

8.根据权利要求1-6所述的低收缩性光固化涂层材料的用途,其特征在于作为高性能涂料、粘合剂、封装材料和齿科修复材料。

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