[发明专利]一种含氟甾体5α-还原酶抑制剂、合成方法及其用途无效

专利信息
申请号: 96116596.0 申请日: 1996-11-29
公开(公告)号: CN1182091A 公开(公告)日: 1998-05-20
发明(设计)人: 田伟生;费向曙;陈庆云 申请(专利权)人: 中国科学院上海有机化学研究所
主分类号: C07J3/00 分类号: C07J3/00;C07J9/00;A61K31/56
代理公司: 上海华东专利事务所 代理人: 邬震中
地址: 20003*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 含氟甾体 还原酶 抑制剂 合成 方法 及其 用途
【权利要求书】:

1.一种新型的甾体5α-还原酶抑制剂,其特征在于是含氟的甾体化合物4-三氟甲基-17-(N-叔丁基氨基甲酰)雄甾-4-烯-3-酮,分子式如下:

2.一种如权利要求1所述的甾体5α-还原酶抑制剂的合成方法,其特征在于是通过分子式为:其中R1=CH3COO、OH、O,R2=COCH3、COOH、O、CONHC(CH3)3,的甾体烯醇酮经氧化、溴代或碘代、脱溴或碘和三氟甲基化、羧化、降解、胺化中的一步或多步反应的组合的方法制得。

3.一种如权利要求2所述的甾体5α-还原酶抑制剂的合成方法,其特征在于以孕烯醇酮类化合物为原料,是经Oppenauer氧化、降解胺化、溴代或碘代、脱溴或碘和三氟甲基化的多步反应制得。

4.一种如权利要求2所述的甾体5α-还原酶抑制剂的合成方法,其特征在于以孕甾烯酮类化合物为原料,是经溴代或碘代、脱溴或碘和三氟甲基化、降解胺化的多步反应制得。

5.一种如权利要求2所述的甾体5α-还原酶抑制剂的合成方法,其特征在于以去氢表雄酮、雄甾烯酮类化合物为原料,是经Oppenauer氧化、溴代或碘代、脱溴或碘和三氟甲基化、羧化、胺化的多步反应制得。

6.一种如权利要求2、3、4或5所述的甾体5α-还原酶抑制剂的合成方法,其特征在于三氟甲基化反应是在溶剂和催化剂存在下,溴代或碘代产物与三氟甲基化试剂反应,其中溶剂为是乙醚、石油醚、苯、四氯化碳、二甲基亚砜、六甲基磷酰胺(HMPA)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMA)。催化剂为CuI或Cu粉,溴代或碘代产物、催化剂和三氟甲基化试剂的克分子比为1∶0.1-5∶1-5,反应时间为1-10小时,反应温度为30-120℃。

7.一种如权利要求6所述的甾体药物5α-还原酶抑制剂的合成方法,其特征在于三氟甲基化被推荐的反应温度为40-80℃。

8.一种如权利要求6所述的4-三氟甲基-3-酮-甾体化合物的制备方法,其特征在于反应中所用的溶剂是六甲基磷酰胺(HMPA)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMA)。

9.一种如权利要求6所述的甾体-5α-还原酶抑制剂的合成方法,其特征在于三氟甲基化的试剂是X(CF2CF2O)m(CF2)kCO2Y,其中X=Cl、Br、I或FO2S,Y=H、CH3、C2H5或K,m=0或1,k=1或2。

10.一种如权利要求1所述的甾体5α-还原酶抑制剂的用途,其特征在于可进一步发展成为治疗前列腺增生症疾病的药物。

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