[发明专利]给模芯加标志以生产带标志的隐形眼镜无效

专利信息
申请号: 96120155.X 申请日: 1996-09-27
公开(公告)号: CN1067942C 公开(公告)日: 2001-07-04
发明(设计)人: W·E·威廉斯;M·A·杜阿特 申请(专利权)人: 庄臣及庄臣视力产品有限公司
主分类号: B29D11/00 分类号: B29D11/00;B29C39/34;G02C7/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴增勇,张志醒
地址: 美国佛*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 模芯加 标志 生产 隐形眼镜
【权利要求书】:

1.一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于它包括:

a.将凹的标志图形刻在金属模芯上,凹的标志图形的深度至少为10微米,容积指数,即低于基准面的容积减去基准面以上的容积之后的量与基准面以下的容积之比,至少为0.9,

b.用金属模芯以注模法制造热塑模框,

c.用热塑模框模制软质水凝胶隐形眼镜,其中金属模芯上凹的标志图形转移到用注模法制造的热塑模框上,变成凸出的部分,然后再转移到在利用该模芯制备的热塑模框内模制的隐形眼镜上,变成凹的可见标志。

2.权利要求1提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,凹的标志图形具有用Ra量度的表面粗糙度对PV的大于0.15的比率Ra/PV5,其中Ra是标志上偏离中心线或拟合面的算术平均偏差,而PV是标志内最高点与最低点之间的距离。

3.权利要求1提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,凹的标志图形具有用RMS量度的表面粗糙度对PV的大于0.15的比率RMS/PV,其中RMS是偏离中心线或拟合面的均方根偏差,而PV是标志内最高点与最低点之间的距离。

4.权利要求1提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,模制步骤生产出稳定软质模制水凝胶隐形眼镜。

5.权利要求1提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,刻制凹的标志图形的步骤是采用电火花加工法。

6.权利要求1提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,所述模芯中用Ra量度的表面粗糙度对H的比率Ra/H大于1.5,其中Ra是标志上偏离中心线或拟合面的算术平均偏差,而H是标志剖面上两条基准线之间的距离。

7.权利要求1提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,所述模芯中用RMS量度的表面粗糙度对H的比率RMS/H大于1.5,其中RMS是偏离中心线或拟合面的均方根偏差,而H是标志剖面上两条基准线之间的距离。

8.权利要求4提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,刻制凹的标志图形的步骤是采用电火花加工法。

9.权利要求8提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,凹的标志图形具有用Ra量度的表面粗糙度对PV的大于0.15的比率Ra/PV,其中,Ra是标志上偏离中心线或拟合面的算术平均偏差,而PV是标志内最高点与最低点之间的距离。

10.权利要求9提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,凹的标志图形具有用RMS量度的表面粗糙度对PV的大于0.15的比率RMS/PV,其中RMS是偏离中心线或拟合面的均方根偏差,而PV是标志内最高点与最低点之间的距离。

11.权利要求10提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,所述模芯中用Ra量度的表面粗糙度对H的比率Ra/H大于1.5,其中Ra是标志上偏离中心线或拟合面的算术平均偏差,而H是标志剖面上两条基准线之间的距离。

12.权利要求11提出的一种给模制隐形眼镜加上可见标志的方法,其特征在于,所述模芯中用RMS量度的表面粗糙度对H的比率RMS/H大于1.5。

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