[发明专利]抛光剂无效
| 申请号： | 96121008.7 | 申请日： | 1996-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN1072699C | 公开（公告）日： | 2001-10-10 |
| 发明（设计）人： | 宫下直人;安部正泰;下村玛丽子 | 申请（专利权）人： | 东芝株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 刘立平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 | ||
【权利要求书】：
1．一种抛光剂，其特征在于，所述的抛光剂系将由氮化硅粒子组成的研磨粒子以胶体状态分散于包括硝酸的酸性溶剂中而成。
2．如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述抛光剂系将由粒径为0.01-1000nm的氮化硅粒子组成的研磨粒子分散于溶剂中而成。
3．如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述研磨粒子成为胶体状态的二次粒子的粒径在60-300nm的范围。
4．如权利要求2所述的抛光剂，其特征在于，所述的抛光剂中再加入离子水。
5．如权利要求3所述的抛光剂，其特征在于，所述的抛光剂中再加入离子水。
6．如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述的抛光剂的粘度为1-10厘泊(cp)。
7．如权利要求2所述的抛光剂，其特征在于，所述的抛光剂的粘度为1-10厘泊(cp)。
8．如权利要求3所述的抛光剂，其特征在于，所述的抛光剂的粘度为1-10厘泊(cp)。
9．如权利要求4所述的抛光剂，其特征在于，所述的抛光剂的粘度为1-10厘泊(cp)。
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