[发明专利]考虑到美观的体结构改型设备无效
申请号: | 96180280.4 | 申请日: | 1996-08-16 |
公开(公告)号: | CN1224338A | 公开(公告)日: | 1999-07-28 |
发明(设计)人: | S·D·爱德华兹 | 申请(专利权)人: | 索姆纳斯医疗技术股份有限公司 |
主分类号: | A61B17/39 | 分类号: | A61B17/39;A61N1/40;A61N5/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 张兰英 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 考虑到 美观 结构 改型 设备 | ||
1.一种减少舌头内部选定部位的体积的设备,它包括:
一机头;
一至少部分位于机头内部的电极,电极包括一电极电磁能传送表面,电极可以从机头内部前进到舌头内部;
一电极推进部件,连接于电极,并能使电极在舌头内部推进一段向前进的距离,其中前进距离足以使电极电磁能传送表面将电磁能传送到选定的组织部位,并在不损伤舌下神经的情况下减少选定部位的体积;以及
一连接于电极的电缆。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,电极是-RE(射频)电极。
3.如权利要求2所述的设备,还包括:
一连接于RF电极的RF能源。
4.如权利要求1所述的设备,还包括:
一至少部分位于机头内部并能冷却舌头表面的冷却装置。
5.如权利要求4所述的设备,还包括:
一流速控制装置,连接于冷却装置并能控制通过冷却装置的冷却媒质的流速。
6.如权利要求1所述的设备,还包括:
一至少部分位于电极外面周围的绝缘体。
7.如权利要求6所述的设备,还包括:
一设置在绝缘体末端的传感器。
8.如权利要求1所述的设备,还包括:
一设置在电极末端的传感器。
9.如权利要求1所述的设备,还包括:
一设置在机头外面的传感器。
10.如权利要求1所述的设备,还包括:
一设置在电极末端的第一传感器和设置在一绝缘体末端的第二传感器,其中绝缘体至少部分位于电极外面周围。
11.如权利要求1所述的设备,还包括:
一连接于电极的反馈控制装置、一传感器和一RF能源。
12.如权利要求1所述的设备,还包括:
一连接于电极的输注媒质源。
13.一种减少舌头内部选定部位的体积的设备,它包括:
一机头;
一至少部分位于机头内部的电极,电极包括一电极电磁能传送表面,电极可以从机头内部前进到舌头内部;
一电极推进和后退部件,它连接于电极,并使电极的至少一部分前进到舌头内部的放置位置,在放置位置,电极电磁能传送表面传送足够的电磁能,以在不损伤舌下神经的情况下减少选定部位的体积;以及
一连接于电极的电缆。
14.如权利要求13所述的设备,其特征在于,电极推进和后退部件还包括:
一导向通道,以便在机头内部的至少一部分接纳电极,并将电极向前方向引导,从机头引导到舌头的内部。
15.如权利要求13所述的设备,其特征在于,电极是一RF电极。
16.如权利要求14所述的设备,还包括:
一连接于RF电极的RF能源。
17.如权利要求13所述的设备,还包括:
一至少部分位于机头内部并能冷却舌头表面的冷却装置。
18.如权利要求17所述的设备,还包括:
一流速控制装置,连接于冷却装置并能控制通过冷却装置的冷却媒质的流速。
19.如权利要求13所述的设备,还包括:
一至少部分位于电极外面周围的绝缘体。
20.如权利要求19所述的设备,还包括:
一设置在绝缘体末端的传感器。
21.如权利要求13所述的设备,还包括:
一设置在电极末端的传感器。
22.如权利要求13所述的设备,还包括:
一设置在机头外面的传感器。
23.如权利要求13所述的设备,还包括:
一设置在电极末端的第一传感器和设置在一绝缘体末端的第二传感器,其中绝缘体至少部分位于电极外面周围。
24.如权利要求13所述的设备,还包括:
一连接于电极的反馈控制装置、一传感器和一RF能源。
25.如权利要求1 3所述的设备,还包括:
一连接于电极的输注媒质源。
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