[发明专利]可变形反射镜装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 97112919.3 申请日: 1997-06-09
公开(公告)号: CN1177112A 公开(公告)日: 1998-03-25
发明(设计)人: 崔范圭;金容权;辛宗祐 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G02B7/198 分类号: G02B7/198;G02B26/02
代理公司: 柳沈知识产权律师事务所 代理人: 李晓舒
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 变形 反射 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种可变形反射镜装置,所述装置包括:

一基片;

在所述基片上表面上形成的多个电极;

在所述电极上安装的反射镜,所述反射镜可以相对所述电极倾斜;和

至少一个柱,所述柱一端在所述电极之间与所述基片连接,所述柱另一端与所述反射镜的下表面连成一体以支撑所述反射镜,所述柱具有弹性,使所述反射镜可以倾斜。

2.根据权利要求1所述的可变形反射镜装置,其中,所述反射镜是由铝制成。

3.根据权利要求1所述的可变形反射镜装置,其中,在所述柱的所述另一端与所述反射镜相结合处形成一通孔穿过所述反射镜。

4.根据权利要求3所述的可变形反射镜装置,其中,所述通孔的形状是矩形、三角形、梯形、或是矩形与梯形相结合的形状中任何一个。

5.根据权利要求1所述的可变形反射镜装置,其中,所述反射镜包括:

带有通孔的支撑板,所述支撑板被所述柱支撑,并根据所述支撑板和所述电极之间产生的静电倾斜;和

一在所述支撑板整个上表面上形成的反射入射光的反射板,其盖住所述通孔。

6.一种制造可变形反射镜装置的方法,所述方法包括以下步骤:

在基片上按一定图案形成电极层;

在所述基片和电极层上表面形成厚膜;

在所述厚膜的上表面上按一定图案形成支撑板;

在所述支撑板上表面设置具有预定形状的掩膜,并部分地将所述支撑板和厚膜腐蚀,形成至少一个通孔;

在所述支撑板上表面和所述通孔内覆盖光致抗蚀剂,并用具有一预定形状的掩膜曝光并腐蚀涂上的所述光致抗蚀剂,而将所述支撑板的边缘除去,把所述支撑板分成各独立的部分;

用溅射方法在所述通孔内表面一侧形成一柱;

在所述支撑板上表面上形成一反射板;并

涂去所述厚膜。

7.根据权利要求6所述的制造可变形反射镜装置的方法,其中,所述支撑板、反射板和所述柱中至少一个是由铝构成。

8.根据权利要求6所述的制造可变形反射镜装置的方法,其中,所述通孔的形状是矩形、三角形、梯形、“T”形或矩形与梯形相结合的形状中之一。

9.根据权利要求6所述的制造可变形反射镜装置的方法,其中,所述厚膜是由下述材料之一构成:光致抗蚀剂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚酰亚胺。

10.一种制造可变形反射镜装置的方法,所述方法包括以下步骤:

在基片上按一定图案形成电极层;

在所述基片和所述电极层上表面上形成一厚膜;

在所述厚膜上表面设置一预定形状的掩膜,将所述厚膜部分腐蚀,形成至少一通孔;

在所述通孔内覆盖光致抗蚀剂,然后用一具有预定形状的掩膜曝光并腐蚀所述所涂的光致抗蚀剂,而除去所述支撑板的边缘,将所述支撑板分开成单个部分;

用溅射方法在所述通孔内表面一侧形成一柱;

在所述厚膜上表面形成一支撑板;

在所述通孔内形成光致抗蚀剂;

在所述支撑板和光致抗蚀剂层上形成反射板,填满所述通孔的上部;

除去所述厚膜和光致抗蚀剂层。

11.根据权利要求10所述的制造可变形反射镜装置的方法,其中,所述支撑板、反射板和柱中至少一个是由铝构成。

12.根据权利要求10所述的制造可变形反射镜装置的方法,其中,所述通孔的形状是矩形、三角形、梯形、T形或矩形与梯形相结合的形状中之一。

13.根据权利要求10所述的制造可变形反射镜装置的方法,其中,所述厚膜是由下述材料中的至少一种构成:光致抗蚀剂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚酰亚胺。

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