[发明专利]对半导体器件的改进无效
申请号: | 97113037.X | 申请日: | 1997-05-26 |
公开(公告)号: | CN1200561A | 公开(公告)日: | 1998-12-02 |
发明(设计)人: | 帕特里克·A·博格雷;安索尼·莱沃里;约基·巴奥;锐克斯·E·露瑟 | 申请(专利权)人: | 哈里公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/70 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 美国佛*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体器件 改进 | ||
1.一种由具有一个半绝缘层的键合晶片组成的半导体器件,可减小高频时的损耗和串扰,它包括:一个处理衬底,处理晶片上的一个半绝缘层,一个绝缘层和绝缘层上的单晶硅制备的器件层,其中半绝缘层具有预定厚度。
2.权利要求1中的器件,其中处理晶片是掺杂的,电阻率范围为1-10,000欧姆·厘米,其中处理晶片的电阻率最好低于1欧姆·厘米。
3.权利要求1或2中的器件,其中半绝缘层包括从金刚石、碳化硅和砷化镓等中挑选的一种材料,同时半绝缘层包括多晶硅、无定形硅、SIPOS、FIPOS中的一种,且绝缘层是二氧化硅。
4.权利要求1至3中任一项的器件,其中半绝缘层足够厚,以减小衬底损耗,且半绝缘层足够薄,以减小电路元件之间的串扰,在晶片和半绝缘层之间有一个阻挡层。
5.权利要求4的器件,其中阻挡层包括一个未掺杂的硅外延层,其中半绝缘层比绝缘层厚,半绝缘层的厚度最好小于最小器件宽度的六倍,或半绝缘层的厚度大于绝缘层的厚度但小于最小器件宽度的六倍。
6.权利要求4或5的器件,其中阻挡层包括一个金属层或硅化物层,以增加处理晶片的电导率,且其中的半绝缘层足够厚,以减小阻性损耗,但又没有厚到因为减小了屏蔽而导致串扰。
7.一种由具有一个半绝缘层的键合晶片结构组成的半导体器件,可减小高频时的损耗和串扰,它包括:一个单晶硅处理衬底,处理晶片上的一个多晶硅半绝缘层,半绝缘层上的一个二氧化硅绝缘层,一个单晶硅的器件层,以及衬底表面上的一个硅外延层。
8.一种由一个衬底组成的半导体器件,用于传输高频信号,它包括:一个包含有组成集成电路的集成器件的单晶硅器件层,所述器件相互间距一个第一距离;一个支撑器件层的上部衬底,具有第一电阻率,和一个受控的上部衬底厚度,以控制高频信号的电阻损耗;一个支撑上部衬底的下部衬底,具有第二电阻率,以减小所述器件层中的器件之间的串扰,串扰是与器件层和下部衬底的距离成反比的;第一电阻率比第二电阻率大,且上部衬底的厚度最好与最小的有源电路器件的宽度一样或小些。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造