[发明专利]对半导体器件的改进无效

专利信息
申请号: 97113037.X 申请日: 1997-05-26
公开(公告)号: CN1200561A 公开(公告)日: 1998-12-02
发明(设计)人: 帕特里克·A·博格雷;安索尼·莱沃里;约基·巴奥;锐克斯·E·露瑟 申请(专利权)人: 哈里公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/70
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 美国佛*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体器件 改进
【权利要求书】:

1.一种由具有一个半绝缘层的键合晶片组成的半导体器件,可减小高频时的损耗和串扰,它包括:一个处理衬底,处理晶片上的一个半绝缘层,一个绝缘层和绝缘层上的单晶硅制备的器件层,其中半绝缘层具有预定厚度。

2.权利要求1中的器件,其中处理晶片是掺杂的,电阻率范围为1-10,000欧姆·厘米,其中处理晶片的电阻率最好低于1欧姆·厘米。

3.权利要求1或2中的器件,其中半绝缘层包括从金刚石、碳化硅和砷化镓等中挑选的一种材料,同时半绝缘层包括多晶硅、无定形硅、SIPOS、FIPOS中的一种,且绝缘层是二氧化硅。

4.权利要求1至3中任一项的器件,其中半绝缘层足够厚,以减小衬底损耗,且半绝缘层足够薄,以减小电路元件之间的串扰,在晶片和半绝缘层之间有一个阻挡层。

5.权利要求4的器件,其中阻挡层包括一个未掺杂的硅外延层,其中半绝缘层比绝缘层厚,半绝缘层的厚度最好小于最小器件宽度的六倍,或半绝缘层的厚度大于绝缘层的厚度但小于最小器件宽度的六倍。

6.权利要求4或5的器件,其中阻挡层包括一个金属层或硅化物层,以增加处理晶片的电导率,且其中的半绝缘层足够厚,以减小阻性损耗,但又没有厚到因为减小了屏蔽而导致串扰。

7.一种由具有一个半绝缘层的键合晶片结构组成的半导体器件,可减小高频时的损耗和串扰,它包括:一个单晶硅处理衬底,处理晶片上的一个多晶硅半绝缘层,半绝缘层上的一个二氧化硅绝缘层,一个单晶硅的器件层,以及衬底表面上的一个硅外延层。

8.一种由一个衬底组成的半导体器件,用于传输高频信号,它包括:一个包含有组成集成电路的集成器件的单晶硅器件层,所述器件相互间距一个第一距离;一个支撑器件层的上部衬底,具有第一电阻率,和一个受控的上部衬底厚度,以控制高频信号的电阻损耗;一个支撑上部衬底的下部衬底,具有第二电阻率,以减小所述器件层中的器件之间的串扰,串扰是与器件层和下部衬底的距离成反比的;第一电阻率比第二电阻率大,且上部衬底的厚度最好与最小的有源电路器件的宽度一样或小些。

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