[发明专利]带薄膜基板的制造方法和制造装置无效

专利信息
申请号: 97190293.3 申请日: 1997-03-27
公开(公告)号: CN1188516A 公开(公告)日: 1998-07-22
发明(设计)人: 野村文保 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 薄膜 制造 方法 装置
【说明书】:

发明涉及安装在防反射滤光片、CRT(阴极射线管)、LCD(液晶显示装置)、EL(电致发光显示装置)、LED(发光二极管显示装置)、VFD(荧光显示管)、投影式显示装置等的各种显示装置前面使用的防反射光学滤光片,或直接贴到其显示图像上使用的防反射薄膜或施于在LCD中使用的本身也是其部件的偏振光薄膜上的防反射膜、干涉滤光片、半透镜,在怕有害的热线(红外线)的光纤光源、液晶投影器、电影放映机、牙科用照明或店铺照明等使用得很多的红外冷光镜,专用于仅仅反射在IR(红外线)截止滤光片、半导体、液晶显示装置中使用的抛物面镜、椭圆面镜、平面镜用的紫外线365、405、436nm(i线、g线、h线)的UV(紫外线)冷光镜、UV截止滤光片,与在彩色照相显影或彩色印刷机、彩色传真机、彩色电视摄象机和电视投影机中使用的R(红)、G(绿)、B(蓝)色对应的分色滤光片、分色镜等的各种带通滤光片等的光学滤光片用光学薄膜以及各种显示装置的防反射膜类,或者在各种半导体、光盘、LCD、LCD用彩色滤光片中所用的各种薄膜,或在最近被世人注目的PDP用的MgO膜或LCD、触摸面板、EC器件、加热镜等中使用的ITO、SnO2、In2O3、ZnO膜等的各种透明电极中使用的带薄膜的基板的制造方法和制造装置。

光学滤光片用光学薄膜和各种显示装置的防反射膜类或者在各种半导体、光盘、LCD、彩色滤光片、透明电极中所用的各种带薄膜的基板的成膜工艺,用真空蒸镀、离子加速蒸镀、离子注入、溅射和烧蚀等进行。

以下,以用真空蒸镀形成光学透镜防反射膜、玻璃板或树脂板的平面基板上的防反射膜、光学滤光片等的光学薄膜为例,对制造带薄膜基板的现有的方法用附图进行说明。

图4是这种带薄膜的基板的制造情况的典型图。首先,说明成膜室的状况。在真空室16的内部把薄膜材料3向着图的上方放置在成膜粒子发生部位2上。用电子枪6产生电子线,用没有画出来的磁场效应使之达到成膜粒子产生部位2,并对之加热,这样,就产生了成膜粒子5。这样产生的成膜粒子5的成膜粒子束轴9(表示成膜粒子产生的最强的方向的方向轴)朝向图的上方。在该成膜粒子束轴9的轴线上或其近旁,设有成膜监视器8,用光学方法测定已在该成膜监视器8上形成的薄膜的膜厚的膜厚测定装置7已设于更上方。在圆形穹顶式基板保持夹具402的中心部分处已开有间隙401,使得成膜粒子可以到达成膜监视器中心部分上。圆形穹顶式基板保持夹具402在成膜粒子产生源的上部的水平面上转动,使得已固定在圆形穹顶式基板保持夹具402上的成膜对象基板组403的下表面暴露于成膜粒子中而形成薄膜。此外,为了限制成膜对象基板组403暴露于成膜粒子中的范围的大小,把成膜区域限定构件4设于成膜粒子产生部位2与成膜对象基板组403的中间。此外,还根据需要把遮蔽成膜粒子5的闸门11也进行同样地设置。

图5是从成膜监视器8的位置向着与成膜粒子束轴9的相反的方向看该情况的附图。成膜对象基板组403被排列成比如说如图那样使得最紧密地填充到圆形穹顶式基板保持夹具中去,在成膜粒子束轴9的轴线上或者在其近旁有基板等遮不住成膜粒子5的间隙401。把成膜监视器8配置为使得成膜粒子可从该间隙中到达成膜监视器8上去。

在成膜对象基板组403的各个基板上形成薄膜的时候,首先,使圆形穹顶式基板保持夹具402预先转动起来。其次,用已从电子枪6发出的电子线对薄膜材料3的成膜粒子产生部位2继续加热,使从此处产生成膜粒子。这时,一开始先关闭闸门11,使成膜粒子不能到达成膜对象基板。当成膜粒子产生部位2的温度达到正常状态时,成膜粒子的产生强度也将达到正常的状态。对此进行确认后打开闸门11。从成膜部位2产生出来的成膜粒子在以成膜粒子束轴9的方向为中心的方向上放射状地飞出,到达成膜对象基板组403的各个基板上。此外,通过成膜粒子束轴9的轴线上或其近旁的间隙401,一部分成膜粒子到达成膜监视器8。

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