[发明专利]液晶装置用的基板、液晶装置和投射型显示装置有效
申请号: | 97191429.X | 申请日: | 1997-10-16 |
公开(公告)号: | CN1205087A | 公开(公告)日: | 1999-01-13 |
发明(设计)人: | 村出正夫 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨凯,叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 装置 投射 显示装置 | ||
1.一种液晶装置用的基板,在该基板上具有:多条数据线;与所述多条数据线交叉的多条扫描线;与所述多条数据线和所述多条扫描线连接的多个薄膜晶体管;以及与该多个薄膜晶体管连接的多个象素电极,其特征在于:
至少在所述薄膜晶体管的沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的下方形成第1遮光膜,在该沟道区与源·漏区的接合部的上方形成第2遮光膜。
2.如权利要求1所述的液晶装置用的基板,其特征在于:所述第1遮光膜是钨膜、钛膜、铬膜、钽膜和钼膜中的任一种金属膜或合金膜。
3.如权利要求1或2所述的液晶装置用的基板,其特征在于:从所述第1遮光膜延伸设置的第1布线在所述象素画面区域的外侧与恒定电位线进行电连接。
4.如权利要求1至3的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:在所述扫描线的下方沿该扫描线形成从所述第1遮光膜延伸设置的所述第1布线。
5.如权利要求1至4的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:从所述第1遮光膜延伸设置的所述第1布线的线宽度比在其上方形成的所述扫描线的线宽度形成得窄。
6.如权利要求5所述的液晶装置用的基板,其特征在于:从所述第1遮光膜延伸设置的所述布线被在其上方形成的所述扫描线覆盖。
7.如权利要求1至4的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:与所述扫描线在同一层中形成的、用于对所述象素附加附加电容的电容线沿该扫描线平行地延伸设置,在该电容线的下方形成从所述第1遮光膜延伸设置的所述第2布线。
8.如权利要求1至7的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:在所述数据线的下方沿该数据线形成从所述第1遮光膜延伸设置的第3布线。
9.如权利要求1至8的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:所述数据线兼作所述第2遮光膜,由铝膜、钨膜、钛膜、铬膜、钽膜和钼膜中的任一种金属膜或其合金膜构成。
10.如权利要求1至9的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:从所述第1遮光膜延伸设置的所述第3布线的线宽度比所述数据线的线宽度形成得窄。
11.如权利要求1至10的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:在所述数据线的下方配置所述沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部,在所述沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的下方设置的第1遮光膜至少在所述沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部处被所述数据线覆盖。
12.如权利要求1至11的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:在所述沟道区与源·漏区的接合部处形成LDD(轻掺杂漏)区。
13.如权利要求1至11的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:在所述沟道区与源·漏区的接合部处形成偏移(offset)区。
14.如权利要求1至13的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:所述扫描线是钨膜、钛膜、铬膜、钽膜和钼膜中的任一种金属膜或金属合金膜。
15.如权利要求1至13的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:将从所述第1遮光膜的侧面到所述沟道区的最小距离L1形成为0.2μm≤L1≤4μm。
16.如权利要求9至15的任一项中所述的液晶装置用的基板,其特征在于:将从所述第2遮光膜的侧面到所述第1遮光膜的最小距离L2形成为0.2μm≤L2。
17.一种液晶装置,其特征在于:隔开规定的间隔来配置如权利要求1至16的任一项中所述的液晶装置用的基板和具有对置电极的对置基板,同时,在所述液晶装置用的基板与所述对置基板的间隙内封入液晶。
18.如权利要求17中所述的液晶装置,其特征在于:在所述对置基板上形成第3遮光膜。
19.如权利要求17或18中所述的液晶装置,其特征在于:形成所述第3遮光膜以便至少覆盖所述第1遮光膜。
20.如权利要求17至19的任一项中所述的液晶装置,其特征在于:在所述对置基板上分别对应于在所述液晶显示装置用的基板上形成的所述多个象素电极,以矩阵状形成微透镜。
21.一种投射型显示装置,其特征在于,具备:光源;对来自所述光源的光进行调制并使其透过或反射的如权利要求17至20的任一项中所述的液晶装置;以及对利用这些液晶装置进行了调制的光进行聚焦并进行放大和投射的投射光学装置。
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