[发明专利]液晶装置用的基板、液晶装置和投射型显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种适用于液晶装置用的基板和使用该基板的液晶装置、投射显示装置的技术。更详细地说，涉及以薄膜晶体管(以下，称为TFT)作为象素开关元件而使用的液晶装置用的基板中的遮光结构。

背景技术

迄今，作为液晶装置，在玻璃基板上以矩阵状形成象素电极的同时，对应于各象素电极形成使用了非晶硅膜或多晶硅膜的TFT，以利用该TFT向各象素电极施加电压来驱动液晶的方式构成的液晶装置正趋于实用化。

在所述液晶装置中作为TFT使用了多晶硅膜的装置，由于可用同样的工序在同一基板上形成构成移位寄存器等的外围驱动电路的晶体管，故适用于高集成化而引人注目。

对于使用了所述TFT的液晶装置来说，用设置在对置基板上的称为黑色矩阵(或黑色条纹)的铬膜等遮光膜来覆盖象素电极驱动用的TFT(以下，称为象素TFT)的上方，以免光直接照射到TFT的沟道区上而引起漏泄电流流动。但是，有时因光引起的漏泄电流，不仅由于入射光、而且由于在液晶装置用的基板的背面用偏振片等反射的光照射TFT而流动。

因此，已提出了为了减少因反射光引起的漏泄电流而在TFT的下侧也设置遮光膜的发明(特公平3-52611号)。但是，如果这样来形成设置在TFT的下侧的遮光膜，使其在对置基板上设置的黑色矩阵的开口部中露出，则存在入射光直接射到遮光膜上，被反射的光照射TFT的沟道区从而引起漏泄电流流动的情况。这是因为，在TFT的下方设置遮光膜的技术中，由于设置在对置基板上的黑色矩阵与在液晶装置用的基板上形成的象素区域的高精度的位置对准是困难的，故来自对置基板一侧的入射光直接射到在黑色矩阵的开口部中露出的遮光膜上而反射，照射TFT的沟道部，引起漏泄电流流动。特别是如果液晶装置用的基板上的遮光膜与黑色矩阵的位置对准的误差较大，则由遮光膜表面引起的反射光显著增多，因该反射光照射到沟道区上，TFT的漏泄电流增大，引起交扰(crosstalk)等的显示恶化。

本发明的目的在于提供一种在液晶装置中能减少TFT的因光引起的漏泄电流的技术。本发明的另一个目的在于提供一种在对置基板上不设置黑色矩阵的情况下能减少TFT的因光引起的漏泄电流的技术。

发明的公开

为了达到上述目的，本发明的第1方面所述的液晶装置用的基板具有：在基板上形成的多条数据线；与所述多条数据线交叉的多条扫描线；与所述多条数据线和所述多条扫描线连接的多个薄膜晶体管；以及与该多个薄膜晶体管连接的多个象素电极，其特征在于：至少在所述薄膜晶体管的沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的下方形成第1遮光膜，在该沟道区与源·漏区的接合部的上方形成第2遮光膜。

按照本发明的第1方面所述的液晶装置用的基板，相对于来自上方的光，可用第1遮光膜防止光向沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的入射，相对于来自下方的光，可用第2遮光膜防止光向沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的入射。由此，可减少TFT的因光引起的漏泄电流。

本发明的第2方面所述的液晶装置用的基板的特征在于：所述第1遮光膜是钨膜、钛膜、铬膜、钽膜和钼膜中的任一种金属膜或合金膜。

按照本发明的第2方面所述的液晶装置用的基板，通过使用遮光性强的、而且具有导电性的金属膜或金属合金膜作为第1遮光膜，相对于来自所述液晶装置用的基板的背面的反射光可起到遮光膜的功能，可防止光向沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的入射。

本发明的第3方面所述的液晶装置用的基板的特征在于：从所述第1遮光膜延伸设置的第1布线在显示区域的外侧与恒定电位线进行电连接。

按照本发明的第3方面所述的液晶装置用的基板，如果在浮置状态下在TFT的沟道区下形成第1遮光膜，则有TFT的各端子间产生不稳定的电位差、导致TFT特性的变化的情况发生。因此，由于必须将第1遮光膜固定于规定的恒定电位，故使从该第1遮光膜延伸设置的第1布线在画面区域的外侧与接地电位那样的恒定电位线连接。由此，可防止由于TFT的各端子间产生不稳定的电位差而引起TFT特性的变化，图象质量不恶化。

本发明的第4方面所述的液晶装置用的基板的特征在于：在所述扫描线的下方沿该扫描线形成从所述第1遮光膜延伸设置的所述第1布线。

按照本发明的第4方面所述的液晶装置用的基板，在扫描线的下方沿扫描线形成从第1遮光膜延伸设置的第1布线。由此，可在不影响象素开口率的情况下进行布线。但是，相对于接近象素开口区域的一侧的扫描线侧面，以位于扫描线的下部的方式形成第1遮光膜，以免入射的光直接照射到该第1遮光膜的表面。