[发明专利]异噁唑衍生物及其作为除草剂的应用

权利要求书

1.一种式I的化合物式中

R选自低级烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、环烷基和链烯基，其中每一个基团都任选地被-SR²或-OR²取代；

R¹选自任选取代的低级烷基、卤代烷基和苯基；

R²是低级烷基；

X和Y各自分别选自氢、羟基、卤素、氰基、烷基亚磺酰基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、酰氧基、氨基甲酰氧基、烷氧基、烷氧基羰基、烷基磺酰氧基、氨基、-NR³¹R⁴⁰、酰氨基、氨磺酰氧基、氨磺酰基；或者一起选自＝O、-S(CH₂)_mS-和-O(CH₂)_mO-，其中m是一个2-3的整数；

Ar是用1-4个取代基任选取代的芳环部分，这些取代基各自分别选自卤素、低级烷基、卤代烷基、低级卤代链烯氧基、低级烷氧基、低级炔氧基、低级卤代烷氧基、低级烷氧基烷基、低级烷硫基烷基、低级烷硫基烷氧基、低级烷基磺酰基烷基、低级烷基亚硫酰基烷基、R³²S-、R³²SO-、R³²SO₂-、R³²SO₃-、R³³R⁴¹NSO₂-、硝基、氰基、低级烷氧基烷氧基、-COR⁴²、-CO₂R⁴³、-CO₂R⁴⁴、-CR⁵⁰(＝NOR⁴⁵)、-NR⁵¹SO₂R⁴⁶、-NR⁴⁷R⁶、-NR³⁴R⁴⁸，并且其中芳环相邻位置上的两个取代基可以和与它们连接的两个原子一起构成一个任选取代的5-7元环；

R³¹、R³²、R³³和R³⁴各自分别是低级烷基、卤代烷基，或(取代的)苯基；

R⁴⁰、R⁴¹、R⁴²、R⁴³、R⁴⁵、R⁴⁶、R⁴⁷和R⁴⁸各自分别是氢或低级烷基；

R⁴⁴是-N＝CR⁷R⁸；

R⁵⁰和R⁵¹各自分别是氢、低级烷基、链烯基、炔基、环烷基或(取代的)苯基；

R⁶是-COR⁴²或-CO₂R⁴³；

R⁷和R⁸各自分别是氢或低级烷基；以及

Z是-S-、-SO-或-SO₂-，或其农业上可接受的盐。