[发明专利]光刻胶的涂覆装置和涂覆方法

权利要求书

1、一种光刻胶涂覆装置，具有：光刻胶的贮存容器；用于形成上述光刻胶的膜的涂覆台；从上述贮存容器向上述涂覆台导入上述光刻胶的管道；比上述涂覆台还处于上游，用于除去来自上述光刻胶的异物和气泡的质量改善台，

上述质量改善台在从上述气泡的除去过程的流出一侧过滤并送出上述光刻胶。

2、权利要求1所述的光刻胶涂覆装置，其特征是：

上述质量改善台，具有留下一部分空间流入上述光刻胶的密闭槽；使该密闭槽内的上述空间减压的真空泵；和在从上述密闭槽的流出一侧过滤上述光刻胶的过滤器，

上述光刻胶，在借助于上述空间的减压进行气泡的除去作用，且在流出一侧用上述过滤器进行了过滤作用之后，送往上述涂覆台。

3、权利要求2所述的光刻胶涂覆装置，其特征是：在比上述密闭槽还往上游处，具有从上述贮存容器向上述密闭槽中送入上述光刻胶的泵。

4、权利要求1所述的光刻胶涂覆装置，其特征是：上述质量改善台包括：在上方开有开口流入上述光刻胶的内侧槽；在从该内侧槽的流出一侧过滤上述光刻胶的过滤器；在密闭状态下收容上述内侧槽和上述过滤器的外侧槽；使上述外侧槽内减压的真空泵。

5、权利要求1到4中的任何一项所述的光刻胶涂覆装置，其特征是：上述涂覆台具有滚涂机构。

6、权利要求5所述的光刻胶的涂覆装置，其特征是：上述滚涂机构对上述薄膜载带涂上述光刻胶。

7、一种光刻胶的涂覆方法，特征是：具有在从贮存容器到用于形成膜的涂覆台为止的位置之间，从光刻胶中除去异物和气泡的改善上述光刻胶的质量的工序，

在上述质量改善工序中，在从上述气泡除去过程的流出一侧过滤并送出上述光刻胶。

8、权利要求7所述的光刻胶涂覆方法，其特征是：留下一部分空间把上述光刻胶供给到密闭槽中，并在上述密闭槽内对上述空间进行减压，抽出混入上述光刻胶中的气泡，在从上述密闭槽的流出一侧过滤上述光刻胶。

9、权利要求8所述的光刻胶涂覆方法，其特征是：在比上述密闭槽还往上游处，用泵从上述贮存容器向上述密闭槽内送入上述光刻胶。

10、权利要求7所述的光刻胶涂覆方法，其特征是：使上述光刻胶流入到上方开口的内侧槽中，在从上述内侧槽的流出一侧使光刻胶通过过滤器进行过滤，使在密闭的状态下收容上述内侧槽和上述过滤器的外侧槽内减压以除去上述气泡。

11、权利要求7到10中的任何一项所述的光刻胶的涂覆方法，其特征是：在上述涂覆台中用滚涂方式形成光刻胶的膜。

12、权利要求11所述的光刻胶的涂覆方法，其特征是：在上述涂覆台中对于薄膜载带形成上述光刻胶的膜。