[发明专利]对HLA分子结合亲和力提高的肽无效
申请号: | 97194430.X | 申请日: | 1997-03-10 |
公开(公告)号: | CN1225590A | 公开(公告)日: | 1999-08-11 |
发明(设计)人: | A·瑟特;R·W·彻斯特鲁特;J·悉尼 | 申请(专利权)人: | 埃皮曼尼公司 |
主分类号: | A61K38/03 | 分类号: | A61K38/03;A61K39/002;A61K39/02;A61K39/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢新华,齐曾度 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | hla 分子 结合 亲和力 提高 | ||
发明背景
本发明涉及预防、治疗或诊断许多病理状态的组合物和方法。特别提供能够结合选择的主要组织相容复合物(MHC)分子并诱导免疫反应的新肽。
MHC分子可分成Ⅰ型或Ⅱ型。Ⅱ型MHC分子基本上表达于参与激发和维持免疫反应的细胞,如T淋巴细胞、B淋巴细胞、巨噬细胞等。Ⅱ型MHC分子被辅助T淋巴细胞识别,并诱导辅助T淋巴细胞的增殖,和对呈现的特定免疫原性肽的免疫反应的放大。Ⅰ型MHC分子表达于几乎所有的有核细胞上,并被细胞毒性T淋巴细胞(CTLs)识别,这种T淋巴细胞然后破坏带有抗原的细胞。CTLs在肿瘤排斥和抵抗病毒、真菌和寄生虫的感染中是十分重要的。
用两种不同的试验方法已经分析了Ⅰ型MHC分子的结合亲和力与分散的肽表位的免疫原性的关系(Sette等,免疫学杂志.,153:5586-5592(1994))。在第一种方法中,MHC分子结合亲和力在10000倍范围内变化的潜在表位的免疫原性在HLA-A※0201转基因小鼠中进行了分析。在第二种方法中,用急性乙型肝炎病人的PBL评价了大约100种乙型肝炎病毒来源的不同的潜在表位的抗原性,这些表位都带有A※0201结合基元。在这两种方法中,发现结合阈值约为500nM(优选500nM或更低)决定肽表位引起CTL反应的能力。这些结果与天然加工的肽或前面所述的T细胞表位的Ⅰ型结合亲和力的测定值十分相符。这些结果说明,在T细胞反应形成中决定基选择具有重要作用。
通常,CTL反应并不直接针对所有可能的表位。而是限于少数几个免疫优势决定基(Zinkernagel等,免疫学进展27,51-59(1979);Bennink等,实验医学杂志168,1935-1939(1988);Rawle等,免疫学杂志146,3977-3984(1991))。早就认识到免疫优势(Benacerraf等,科学175,273-279(1972))可以解释为一个给定的表位选择性地结合一个特定的MHC分子的能力(决定基选择理论)(Vitiello等,免疫学杂志131:1635(1983);Rosenthal等,自然267,156-158(1977)),或被存在的TCR特异性选择性地识别(全能理论)(Klein,J.,Immunology,the Science of Self-Nonself Discrimination,John Wiley&Sons,New York,pp270-310(1982))。已经证实,另外的因素,大多数与处理过程相关,也在诱发严格的免疫原性以外的反应中起关键作用,这些因素中的多数潜在的决定基将以免疫优势的形式存在(Sercarz等,免疫学年评11,729-766(1993))。
调节一个特定的免疫原性肽与一个或多个HLA分子结合亲和力的能力,以及由此而调节由此肽引发的免疫反应的能力,将大大提高肽基疫苗和治疗制剂的用途。本发明提供这些和其它的优势。
发明概述
本发明提供用于疫苗和治疗学的肽和编码这些肽的核酸。本发明提供在病人身上诱导对预选的抗原产生细胞毒T细胞反应的方法。此方法包括将细胞毒T细胞与本发明的免疫原性肽接触。本发明的肽可能来源于许多抗原,包括病毒抗原、肿瘤相关抗原、寄生虫抗原、真菌抗原等。本发明的方法可以在体外和体内进行。在优选实施方案中,向病人给予含有编码免疫原性肽序列的核苷酸分子,使肽与细胞毒T细胞接触。
在一个实施方案中,肽有约9-15个残基,以小于约500nM的解离常数结合至少2个HLA-A3样分子,并诱导细胞毒T细胞反应。此免疫原性肽具有包含一个结合基元的9残基序列,从N末端到C末端如下:
位于第2位的第一个初级锚定残基,选自A、L、I、V、M、S和T,位于第9位的的第二个初级锚定残基,选自R和K;和
一个或多个次级锚定残基,选自位于第3位的Y、F或W,位于第6位的Y、F或W,位于第7位的Y、F或W,位于第8位的P,以及这些的任意组合。
本发明进一步提供结合HLA-A※0301基因产物的免疫原性肽。这些肽含有一个9残基的结合基元,从N末端到C末端如下:
位于第2位的第一个初级锚定残基,选自A、L、I、V、M、S和T,位于第9位的第二个初级锚定残基,选自R和K;和
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃皮曼尼公司,未经埃皮曼尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/97194430.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。