[发明专利]球点阵半导体器件外壳及其制造工艺无效

专利信息
申请号: 98100928.X 申请日: 1998-03-19
公开(公告)号: CN1194458A 公开(公告)日: 1998-09-30
发明(设计)人: 金溶演;柳在喆 申请(专利权)人: 三星航空产业株式会社
主分类号: H01L23/02 分类号: H01L23/02;H01L23/48;H01L21/60
代理公司: 中科专利代理有限责任公司 代理人: 刘晓峰
地址: 韩国庆尚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 点阵 半导体器件 外壳 及其 制造 工艺
【权利要求书】:

1.一种球点阵半导体器件外壳,包括连接在半导体芯片上的引线,其特征在于包含:在每根导线上设置的导电印剂部分;

及焊球,其与导电印剂的每一部分相接,并与外部衬底的端子相连。

2.根据权利要求1所述的球点阵半导体器件外壳,其特征在于导电印剂部分是通过印压成面制作的。

3.根据权利要求1所述的球点阵半导体器件外壳,其特征在于导电印剂的材料是从铜、金、银、钯、铑或其中的合金中选取的。

4.根据权利要求1所述的球点阵半导体器件外壳,其特征在于焊球交叉排列。

5.根据权利要求1所述的球点阵半导体器件外壳,其特征在于还包含起维持引线间隔作用的绝缘带。

6.根据权利要求1所述的球点阵半导体器件外壳,其特征在于焊球以隔行相同的方式排列。

7.制造球点阵半导体器件外壳的方法,其特征在于包括的步骤为:

(a)将导电印剂部分涂在引线上;

(b)将半导体芯片的端子焊接到导线上,并将焊接所成的结构用树脂包裹;

(c)将导电印剂连接到焊球上,再由焊球连接外部衬底端线。

8.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于金属衬底的材料从铜、铜合金和镍铁合金中选取。

9.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于步骤(a)包括将导电印剂压印以获得导电印剂平面的过程。

10.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于步骤(a)的制作方法是从屏印方法,金属模板方法,注射和扩散的方法和布点的方法中选取。

11.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于步骤(a)包括使模制树脂平整以使得导电印剂露在模制树脂底下的工艺。

12.根据权利要求9所述的制造方法,其特征在于步骤(a)包括为防止导电印剂变形,在压印导电印剂工艺之前进行的对导电印剂的干燥后处理过程。

13.根据权利要求12所述的制造方法,其特征在于步骤(a)包括为了防止导电印剂变形,在压印导电印剂工艺之后进行后处理的过程。

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