[发明专利]隐性重离子核径迹防伪标识的制造方法及其制品

权利要求书

1.一种隐性防伪标识的二次曝光制造方法，由以下几个步骤所组成：

1).用具有一定能量和一定质量的重离子对透明的高分子聚合物膜进行电离辐照；

其特征在于：

2).用紫外光透过一个防伪标识模板对电离辐照后的高分子聚合膜进行氧化照射；

3).用化学蚀刻液对氧化照射后的高分子聚合膜进行化学蚀刻；

4).中和、清洗和干燥经化学蚀刻后的高分子聚合膜，得到所要的防伪标识。

2.根据权利要求1的制造方法，其特征在于：所说的透明高分子聚合物的厚度为5-40μm。

3.根据权利要求2的制造方法，其特征在于：所说的透明高分子聚合物的厚度为10-20μm。

4.根据权利要求1的制造方法，其特征在于：所说的电离辐照时间在给定了所要求的核径迹密度以后与重离子的能量和质量有关。

5.根据权利要求4的制造方法，其特征在于：所要求的核径迹密度在10⁴-10⁸个/cm²之间。

6.  根据权利要求5的制造方法，其特征在于：所说的电离辐照有不同的入射角。

7.根据权利要求1的制造方法，其特征在于：所说的紫外照射时间在0.1-1.0小时之间。

8.  根据权利要求1的制造方法，其特征在于：所说的化学蚀刻液是碱性蚀刻液。

9.根据权利要求8的制造方法，其特征在于：所说的碱性蚀刻液是NaOH蚀刻液。

10.根据权利要求9的制造方法，其特征在于：所说的NaOH蚀刻液的浓度在4N-8N之间。

11.根据权利要求1的制造方法，其特征在于：所说的化学蚀刻液的温度在50-80℃之间。

12.根据权利要求1-11的制造方法，其特征在于：所说的重离子为重离子发生器所产生的重离子。

13.根据权利要求1-11的制造方法，其特征在于：所说的重离子为自发裂变源所产生的重离子。

14.根据权利要求1-11的制造方法，其特征在于：所说的重离子为核裂变所产生的重离子。

15.根据权利要求14的制造方法，其特征在于：所说的电离辐照时间在0.6-60秒。

16.根据权利要求1-11的制造方法，其特征在于：所用的防伪标识模板是根据所要的商标或标识的图文样采用激光扫描法精制而成的。

17.根据权利要求1-16的制造方法所制造的防伪标识品，其特征在于：所说的防伪标识品为隐性的，它只有在一定的角度下可以看到。

18.根据权利要求17的防伪标识品，其特征在于：防伪商标中的核密码分区多次加入。