[发明专利]电照相感光元件、其制备方法处理盒及电照相设备

权利要求书

1、一种电照相感光元件，包括铝质基底和位于铝质基底上的感光层；

所述的基底在感光层一侧的表面部分含铝、氧和钛，或铝、氧和锆。

2、按照权利要求1的电照相感光元件，其中在感光层一侧的表面部分的钛或锆含量基于铝含量为4-100原子％的范围内。

3、按照权利要求1的电照相感光元件，其中感光层一侧的表面部分还含有磷。

4、按照权利要求1或3的电照相感光元件，其中感光层一侧的表面部分还含有氟。

5、按照权利要求1的电照相感光元件，其中感光层一侧的表面部分是通过化学转变形成的涂层。

6、按照权利要求5的电照相感光元件，其中所述涂层层厚为1μm或更小。

7、一种制备电照相感光元件的方法，包括如下步骤：

用含钛盐或锆盐的含水酸溶液使铝质基底进行化学转变：及

形成一层感光层。

8、按照权利要求7的方法，其中钛盐和锆盐是氟化合物。

9、按照权利要求7的方法，其中所述的含水酸溶液的pH值为10-5.5。

10、按照权利要求7的方法，其中所述的含水酸溶液的温度为30℃-90℃。

11、按照权利要求7的方法，其中所述的含水酸溶液还含有选自磷酸、磷酸盐、单宁和单宁酸中的至少一种化合物。

12、按照权利要求7的方法，其中所述的含水酸溶液还含有至少一种选自氢氟酸、氟硼酸、六氟合硅氢酸和它们的盐中的化合物。

13、一种处理盒，包括一个电照相感光元件和选自充电装置、显影装置和清洁装置中的至少一个装置；

所述的电照相感光元件与所述至少一个装置合并成一个单元，并可拆卸地安装在电照相设备主体上；及

所述的电照相感光元件包括一个铝质基底和一个位于该铝质基底上的感光层；

所述基底在感光层一侧的表面部分含铝、氧和钛，或铝、氧和锆。

14、按照权利要求13的处理盒，其中在感光层一侧的表面部分的钛或锆含量基于铝的含量在4-100原子％的范围内。

15、按照权利要求13的处理盒，其中感光层一侧的表面部分还含有磷。

16、按照权利要求13或15的处理盒，其中感光层一侧的表面部分还含有氟。

17、按照权利要求13的处理盒，其中在感光层一侧的表面部分是一层由化学转变形成的涂层。

18、按照权利要求17的处理盒，其中所述涂层层厚为1μm或更小。

19、一种电照相设备，包括一个电照相感光元件、一个充电装置、一个曝光装置、一个显影装置和一个转印装置；

所述的电照相感光元件包括一个铝质基底和一个布置在铝质基底上的感光层；

所述的基底在感光层一侧的表面部分含铝、氧和钛或铝、氧和锆。

20、按照权利要求19的电照相设备，其中在感光层一侧的表面部分的钛或锆的含量基于铝的含量在4-100原子％的范围内。

21、按照权利要求19的电照相设备，其中感光层一侧的表面部分还含有磷。

22、按照权利要求19或21的电照相设备，其中感光层一侧的表面部分还含有氟。

23、按照权利要求19的电照相设备，其中感光层一侧的表面部分是一层由化学转变形成的涂层。

24、按照权利要求23的电照相设备，其中所述涂层层厚为1μm或更小。