[发明专利]电照相感光元件、其制备方法处理盒及电照相设备

说明书

本发明涉及电照相感光元件、制备电照相感光元件的方法、以及具有上述感光元件的处理盒及电照相设备。

电照相感光元件基本上是由一层用于通过静电充电和曝光在其上形成潜像的感光层和一层布置该感光层的基底构成的。

同时，要求电照相感光元件具有适应所用的电照相方法的感光性、电性能和光学特性。

还要求电照相感光元件具有好的环境稳定性，足以在低温/低湿至高温/高湿的任何环境下表现其性能。

在数字复印机和激光打印机等使用单一波长的光源进行曝光的设备中，典型的不合格图像是图像线、白背景区的黑斑、黑背景区的白斑、白背景区的背景雾，以及由例如基底表面形状和感光元件的不均匀层厚等多种因素引起的干涉边缘。因此在制备感光元件时，必须事先采取防范措施，使不合格图像不会出现。

一种最可能导致不合格图像的因素可能是基底的表面状态。

制模后根本未被处理的基底通常不必具有任何最适合感光元件的表面状态。因此表面状态引起的问题可能会发生在很多场合。

为了解决上述问题，目前已提出了多种方法，例如一种方法是如日本专利申请公开号54-12733和57-62056所披露的那样，使铝质基底表面受到铬化处理，形成铬化的化学转变涂层；一种方法是如日本专利申请公开号58-14841和64-29852所披露的那样，在铝质基底表面上形成一层勃姆石涂层；另一种方法是如日本专利申请公开号57-29051所披露的那样，通过高温处理使铝质基底表面受到强制氧化，形成一层氧化膜。

至于铬化方法，可以获得具有一定性能的基底。但是，由于处理溶液含铬，很难处理废液，且会危害环境。

至于勃姆石处理，不能说表面晶体状态适合于电照相感光元件的基底。这在一定程度上对电照相性能有效，但对图像而言，由于表面结构和形状不适合，不能得到满意的图像质量。因此，在现有的情况下，满足所有性能的材料是不存在的。

上述表面处理的目的是用在基底表面形成的膜防止由于电荷从基底局部注入感光层所产生的电照相性能及图像的任何不均匀。

作为一种防止电荷局部注入而引起不合格图像的方法，一种可行的方法是使铝质基底表面受到阳极氧化，制备一层氧化铝(如日本专利申请公开号2-7070及5-34964)。

该方法是一个能达到上述目的的好方法。但是要均匀地形成该层，而在基底表面上不会引起层厚不均匀，就必须使厚度足够大，在其形成的常规条件下层厚为约5或6μm或更大。因此该层的厚度应比作为电荷注入阻挡层实际要求的厚度大得多，导致成本升高。

因此，本发明的一个目的是提供一种具有良好电照相性能的电照相感光元件，它在低温/低湿到高温/高湿的任何环境下都不会造成不合格图像，也很少引起电位变化，一种易于制备上述电照相感光元件、成本低且稳定的方法，及具有上述感光元件的一个处理盒和一种电照相设备。

作为一种为解决上述问题而进行的研究的结果，发明人发现通过在基底表面上进行特殊的化学转变处理，也就是说不使用任何外加电力，通过在电照相感光元件中所使用的铝质基底和含有特殊金属元素的含水酸溶液之间的化学反应，在基底上形成一层特殊组成的不溶性涂层或薄膜，这是一种非常有效的方法。鉴于能获得性能极好的电照相感光元件、成本和环境的不利影响大大降低、生产设备比在阳极氧化中的更加简单等优点，这是非常有效的。

也就是说，本发明提供了一种包括铝质基底和布置在铝质基底上的感光层的电照相感光元件；

该基底的感光层一侧的表面部分含有铝、氧和钛，或铝、氧和锆。

本发明还提供了一种制备电照相感光元件的方法，包括以下步骤：

用含钛盐或锆盐的含水酸溶液使铝质基底受到化学转变处理；及

形成一层感光层。

本发明还提供了具有上述电照相感光元件的一个处理盒及电照相设备。

图1图示说明带有具有本发明的电照相感光元件的处理盒的电照相设备的结构实例。

图2为说明构成本发明的电照相感光元件基底表面部分的元素的组成比的曲线图。

本发明的电照相感光元件具有一层铝质基底和在该铝质基底上的感光层，该基底的感光层一侧的表面部分含有铝、氧和钛，或铝、氧和锆。

可以通过用含钛盐或锆盐的含水酸溶液使铝质基底受到化学转变处理；然后形成一层感光层而制成上述的电照相感光元件。

本发明中的化学转变是指不施加任何象在阳极氧化中的外加电力，让基底与特殊溶液接触，在基底上形成具有特殊组成的涂层的处理。