[发明专利]酞菁化合物,其制备方法以及使用该化合物的电子照相光敏性元件有效

专利信息
申请号: 98124140.9 申请日: 1998-09-11
公开(公告)号: CN1074768C 公开(公告)日: 2001-11-14
发明(设计)人: 田中正人 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22;C07F5/00;G03G5/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 刘金辉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 化合物 制备 方法 以及 使用 电子 照相 光敏 元件
【权利要求书】:

1.具有选自特征在于分别通过CuKα特征性X-射线衍射方法获得的下面所示的X-射线衍射图(a)-(e)的晶形的碘镓酞菁:

(a)在9.6度的Bragg角(2θ±0.2度)具有最强峰,并不存在强度为最强峰强度的30%或更高的其他峰,

(b)在9.4度和27.1度的Bragg角(2θ±0.2度)具有最强峰和第二最强峰,其中第二最强峰强度是最强峰强度的30%或更高,

(c)在7.5度和27.7度的Bragg角(2θ±0.2度)具有最强峰和第二最强峰,

(d)在7.5度和26.4度的Bragg角(2θ±0.2度)具有最强峰和第二最强峰,和

(e)在8.8度和27.2度的Bragg角(2θ±0.2度)具有最强峰、第二最强峰和第三最强峰之中的二个峰。

2.根据权利要求1的碘镓酞菁,其中晶形为特征在于X-射线衍射图(a)的晶形。

3.根据权利要求2的碘镓酞菁,它通过在150-230℃搅拌和加热下,在α-氯萘中使酞菁与三碘化镓反应而获得。

4.根据权利要求1的碘镓酞菁,其中晶形为特征在于X-射线衍射图(b)的晶形。

5.根据权利要求4的碘镓酞菁,其中X-射线衍射图(b)进一步在Bragg角(2θ±0.2度)为8.7度,16.4度,18.3度和19.5度显示强峰。

6.根据权利要求4的碘镓酞菁,它通过下面方法(1)-(3)之一获得:

(1)通过在150-230℃搅拌和加热下,使在α-氯萘溶剂中将邻苯二甲腈与三碘化镓反应而形成的碘镓酞菁进行干研磨;

(2)通过在150-230℃搅拌和加热下,使在α-氯萘溶剂中将邻苯二甲腈与三碘化镓反应而形成的碘镓酞菁进行干研磨,接着在选自含卤素的溶剂,酮溶剂,腈溶剂,酯溶剂,醇溶剂和醚溶剂的溶剂中碾磨或搅拌;和

(3)通过在研磨或搅拌下,将氯镓酞菁或氢氧化镓酞菁与氢碘酸反应而获得的碘镓酞菁在选自含卤素的溶剂,酮溶剂,腈溶剂,酯溶剂,醇溶剂和醚溶剂的溶剂中研磨或搅拌。

7.根据权利要求1的碘镓酞菁,其中晶形为特征在于X-射线衍射图(c)的晶形。

8.根据权利要求7的碘镓酞菁,其中X-射线衍射图(c)进一步在Bragg角(2θ±0.2度)为16.3度显示强峰。

9.根据权利要求7的碘镓酞菁,它通过下面方法(4)或(5)获得:

(4)通过在150-230℃搅拌和加热下,使在α-氯萘溶剂中将邻苯二甲腈与三碘化镓反应而形成的碘镓酞菁进行干研磨,接着在酰胺溶剂中进行研磨或搅拌,或

(5)通过在研磨或搅拌下,将氯镓酞菁或氢氧化镓酞菁与氢碘酸反应而获得的碘镓酞菁在酰胺溶剂中进行研磨或搅拌。

10.根据权利要求1的碘镓酞菁,其中晶形为特征在于X-射线衍射图(d)的晶形。

11.根据权利要求10的碘镓酞菁,其中X-射线衍射图(d)进一步在Bragg角(2θ±0.2度)为16.3度显示强峰。

12.根据权利要求10的碘镓酞菁,它通过下面方法(6)或(7)获得:

(6)通过在150-230℃搅拌和加热下,使在α-氯萘溶剂中将邻苯二甲腈与三碘化镓反应而形成的碘镓酞菁进行干研磨,接着在胺溶剂中进行研磨或搅拌,或

(7)通过在研磨或搅拌下,将氯镓酞菁或氢氧化镓酞菁与氢碘酸反应而获得的碘镓酞菁在胺溶剂中进行研磨或搅拌。

13.根据权利要求1的碘镓酞菁,其中晶形为特征在于X-射线衍射图(e)的晶形。

14.根据权利要求13的碘镓酞菁,其中X-射线衍射图(e)进一步在Bragg角(2θ±0.2度)为9.8度显示强峰。

15.根据权利要求13的碘镓酞菁,它通过下面方法(8)或(9)获得:

(8)通过在150-230℃搅拌和加热下,使在α-氯萘溶剂中将邻苯二甲腈与三碘化镓反应而形成的碘镓酞菁进行干研磨,或

(9)通过在研磨或搅拌下,将氯镓酞菁或氢氧化镓酞菁与氢碘酸反应而获得的碘镓酞菁在水中进行搅拌。

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