[发明专利]芳族卤化物的还原无效
申请号: | 98805275.X | 申请日: | 1998-04-30 |
公开(公告)号: | CN1257467A | 公开(公告)日: | 2000-06-21 |
发明(设计)人: | L·克佐尔纳;J·弗罗里奇;U·乔蒂斯;B·库恩伯格 | 申请(专利权)人: | 萨诺化学药物股份公司 |
主分类号: | C07B31/00 | 分类号: | C07B31/00;C07D491/10;C07D307/00;C07D223/00;//C07C1/26;C07D333/10;(C07D491/10;30700;22300) |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 吴亦华 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 卤化物 还原 | ||
1.用还原剂将通式(I)芳族卤化物还原成通式(II)化合物方法,
Ar-Xn (I)
其中Ar为芳族基团,它可以在一个或多个位置被取代,它可以被稠合和可含一个或多个杂原子(O,S,N);X为F,Cl,Br和/或I;n=1-10,
Ar-Hn (II)
其中Ar和n具有通式(I)中所指定的意义,其特征是在有氧存在下进行还原。
2.权利要求1的方法,其特征是使用一种氢化物试剂如DiBAL-H,DiBAL-H/ZnCl2,异丙醇铝,Red-Al,K-Selectride,L-Selectride,KS-Selectride,LS-Selectride,Li-三-叔丁氧基-AlH,Li-三-乙氧基-AlH,9BBN,Super-Hydride,NaBH4,Zn(BH4)2,AlH3·AlCl2H或至少两种上面列出的还原剂的混合物。
3.权利要求2的方法,其特征是使用LiAlH4作为还原剂。
4.权利要求1~3中一项的方法,其特征是将纯氧形式的氧加入到反应混合物中。
5.权利要求1~3中一项的方法,其特征是将氧气和一种惰性气体混合物形式的氧加入到反应混合物中。
6.权利要求5的方法,其特征是惰性气体是氮气或一种稀有气体,特别是氩或氦气。
7.权利要求5的方法,其特征是含氧混合物是20%氧气和80%惰性气体的混合物。
8.权利要求5的方法,其特征是含氧混合物是空气。
9.权利要求1~8中一项的方法,其特征是使用干燥氧气或干燥的含氧混合物。
10.权利要求1~9中一项的方法,其特征是还原在一溶剂中进行以及氧气或含氧混合物中含有溶剂,特别是用溶剂饱和。
11.权利要求1~10中一项的方法,其特征是还原通式(I)的化合物,其中X为溴。
12.权利要求1~11中一项的方法,其特征是还原通式(I)的化合物,其中Ar是narwedine类的基团。
13.权利要求11和12的方法,其特征是还原溴代narwedine。
14.权利要求13的方法,其特征是还原溴代narwedine缩酮。
15.权利要求14的方法,其特征是还原以下化学式的溴代narwedine-丙二醇缩酮,
16.制备narwedine的方法,其特征是将溴代甲酰narwedine,特别是溴代甲酰narwedine缩酮,用一还原剂,特别是一种权利要求2和3中的还原剂,在无氧存在下还原成溴代narwedine,特别是溴代narwedine缩酮,将后者用一种还原剂,特别是一种权利要求2和3中的还原剂,在有氧存在下还原成narwedine,特别是narwedine缩酮,并且除去缩酮保护基团,如果存在这种基团的话。
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