[发明专利]光记录媒体及其制作方法无效

专利信息
申请号: 98806625.4 申请日: 1998-07-13
公开(公告)号: CN1261308A 公开(公告)日: 2000-07-26
发明(设计)人: 保阪富治;户崎善博;高桥克幸;国枝敏明;土居由佳子;谷口正俊;小林敦子;村井章子;饭沼芳春;长谷知行 申请(专利权)人: 松下电器株式会社;山田化学工业株式会社
主分类号: B41M5/26 分类号: B41M5/26;G11B7/24;C09K9/02
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 章鸣玉
地址: 日本国大*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 记录 媒体 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种光记录媒体,所述光记录媒体在基板上形成了利用激光可记取及/或读取信息的记录层,其特征在于,记录层是在基板上蒸镀包含减量开始温度或分解温度为300~500℃的至少1种含有金属的偶氮系化合物的记录层构成材料而形成的。

2.如权利要求1所述的光记录媒体,其特征还在于,含有金属的偶氮系化合物的升华或蒸发率在200埃/分以上。

3.如权利要求1或2所述的光记录媒体,其特征还在于,含有金属的偶氮系化合物由通式(a)或(a’)表示,式中,M(II)表示2价金属,Xa表示与两侧相邻的碳原子一起形成单环式或多环式芳香环的取代或非取代残基,Ya表示与两侧相邻的碳原子和氮原子一起形成含氮多元芳香环的取代或非取代残基;当这些残基具有取代基时,其取代基是各自独立地选自卤原子、取代及非取代烷基、取代及非取代烷氧基、取代及非取代烷硫基、取代及非取代芳基、取代及非取代芳氧基、取代及非取代芳硫基、硝基和氨基的基团。

4.如权利要求3所述的光记录媒体,其中Xa及/或Ya为取代的残基时,取代基的碳原子数为1~9。

5.如权利要求3或4所述的光记录媒体,其中Xa与相邻碳原子一起形成了苯环、菲环或萘环。

6.如权利要求3~5的任一项所述的光记录媒体,其中Ya与相邻碳原子及氮原子一起形成了吡啶基、嘧啶基、吡嗪基、三嗪基、噻唑基或苯并噻唑基。

7.如权利要求3~6的任一项所述的光记录媒体,其中通式(a)或(a’)中,用硫原子代替氧原子与残基Xa相邻的碳原子结合。

8.如权利要求1或2所述的光记录媒体,其特征还在于,含有金属的偶氮系化合物由通式(b)或(b’)表示,式中,M(II)表示2价金属,R表示取代及非取代烷基、取代及非取代烷氧基、取代及非取代烷硫基、取代及非取代芳基、取代及非取代芳氧基、取代及非取代芳硫基,Xb表示与两侧相邻的碳原子一起形成单环式或多环式芳香环的取代或非取代残基,Yb表示与两侧相邻的碳原子和氮原子一起形成含氮多元芳香环的取代或非取代残基;当这些残基具有取代基时,其取代基是各自独立地选自卤原子、取代及非取代烷基、取代及非取代烷氧基、取代及非取代烷硫基、取代及非取代芳基、取代及非取代芳氧基、取代及非取代芳硫基、硝基和氨基的基团。

9.如权利要求8所述的光记录媒体,其中R是碳原子数为1~9的基团。

10.如权利要求8或9所述的光记录媒体,其中R是选自甲基、乙基、丁基、苯基、甲氧基、乙氧基、丁氧基、苯氧基、甲硫基、乙硫基、丁硫基或苯硫基的基团,或者是至少1个氢原子被卤原子取代的上述基团中的任一种。

11.如权利要求8~10的任一项所述的光记录媒体,其中Xb及/或Yb为取代的残基时,取代基的碳原子数为1~9。

12.如权利要求8~11的任一项所述的光记录媒体,其中Xb与相邻碳原子一起形成了菲环或萘环。

13.如权利要求8~12的任一项所述的光记录媒体,其中Yb与相邻碳原子及氮原子一起形成了吡啶基、嘧啶基、吡嗪基、三嗪基或噻唑基。

14.如权利要求8~13的任一项所述的光记录媒体,其中通式(b)或(b’)中,用硫原子代替氧原子与残基Xb相邻的碳原子结合。

15.如权利要求1或2所述的光记录媒体,其特征还在于,含有金属的偶氮系化合物由通式(c)表示,式中,M(IV)表示4价金属,Xc和Yc表示与两侧相邻的碳原子一起形成单环式或多环式芳香环的取代或非取代残基,当这些残基具有取代基时,其取代基是各自独立地选自卤原子、取代及非取代烷基、取代及非取代烷氧基、取代及非取代烷硫基、取代及非取代芳基、取代及非取代芳氧基、取代及非取代芳硫基、硝基和氨基的基团。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器株式会社;山田化学工业株式会社,未经松下电器株式会社;山田化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98806625.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top