[发明专利]电抗匹配系统及方法

说明书

相互参照的其他待审申请

根据35 USC 119(e)(《美国法典》第35篇第119(e))，此非临时性的申请基于1997年9月17日提交的顺序号为60/059 176的申请主张优先权。该申请的内容可作为本申请的参照。本申请与下列申请有关：＂System and Method for Monitoring and Controlling Gas PlasmaProcesses(监测和控制气体等离子体处理过程的系统和方法)＂，顺序号为60/059,151,1997年9月17日提交，以及＂DEVICE AND METHODFOR DETECTING AND PREVENTING ARCING IN RF PLASMASYSTEMS(在射频等离子体系统中监测和防止弧光放电的装置和方法)＂，顺序号为60/059,173，1997年9月17日提交。这两个临时性申请均可作为本申请的参考。本申请还与下列申请有关：与本申请同一日期提交的＂System and Method for Monitoring and Controlling GasPlasma Proeesses(监测和控制气体等离子体处理过程的系统和方法)＂，顺序号为＿＿＿，代理人案卷号为2312-742-6 YA WO，以及与本申请同一日期提交的＂DEVICE AND METHOD FOR DETECTINGAND PREVENTING ARCING IN RF PLASMA SYSTEMS(在射频等离子体系统中监测和防止弧光放电的装置和方法)＂，顺序号为＿＿＿，代理人案卷号为2312-743-6 YA WO。这两个临时性申请均可作为本申请的参考。

发明背量

发明领域：

本发明涉及电抗匹配系统，尤其涉及利用电能生成等离子体的系统。

背景详述：

在许多电气装置和固态加工工艺中，要利用等离子体与基片比如半导体晶片反应，或者促进与基片的反应。为了生成等离子体，可通过等离子体电容及/或电感耦合元件向气体提供射频能。例如，可用电极作为电容耦合元件，而导电环或线圈则可用作电感耦合(即磁耦合)元件。

如果电源和负载(即与等离子体耦合的元件)的阻抗不匹配，则供给给负载(或者说负载所吸收)的电能没有最大化，则可能难以控制负载所吸收的能量多少。另外，阻抗失配可能会对电源或者与电源连接的元件造成损害。在多数情况下，负载阻抗(也就是等离子体耦合元件的输入阻抗)无法预先确定，因为其取决于与之相耦合的等离子体的状态或者说条件，而在处理过程中，等离子体的状态会发生变化。因此，许多等离子体处理系统都利用一种匹配网络，这种匹配网络设在射频源和等离子体耦合元件之间，用以匹配阻抗。使用所述匹配网络，是为了使供给等离子体的射频功率最大，并控制该射频电源的幅度和相位。