[发明专利]用以形成薄膜的可在基片和防镀片之间改变距离的喷镀设备

说明书

本发明涉及喷镀设备，更具体地说，涉及用以在液晶显示装置、半导体、磁光记录盘、磁记录盘等上面形成薄膜的可改变基片和防镀片之间距离的喷镀设备。

喷镀设备一般用以制造液晶显示装置、半导体、磁光录盘、磁录盘等。用于大量生产的喷镀设备包括两种设备，就是，用以连同夹具传送基片的串联式喷镀设备和只是传送基片的簇形工具式喷镀设备。

在串联式喷镀设备中，很多操作室如装料室、卸料室和成膜室作直线形或成U形顺序排列。基片由夹具夹持。很多基片夹具穿过平行于基片表面的操作室以便接连地在各基片上形成薄膜。

在这种设备中，一般将很多基片夹持在一个基片夹具上，再移动基片夹具而进行传送。在成膜室内设有用以遮盖部分基片的防镀片和设备的机械部分以便在规定部分以外的基片上和在真空容器内不致镀上不必要的薄膜。

因此，与只是传送基片相比，基片的传送比较容易，而且基片是在高速下传送的。这样，串联式喷镀设备具有很高的生产率。但在传送基片时必须在基片和防镀片之间或基片夹具和防镀片之间留出较大的间隙以免接触。由于间隙很大，就在基片夹具和真空容器内镀上不必要的薄膜。在存在这种不必要的薄膜而锐落时，基片就受到沾染而降低了镀膜的质量。此外，为防止在用以移动基片夹具的基片夹具驱动机构上镀上薄膜，就须设置大量不同的防镀片，还须经常更换、清洗这些防镀片。这样，维护工作就变得很困难。

另一方面，在簇形工具式喷镀设备中，在设备中央设置中心室，其中装有在真空中操作的自动机，在中心室的周围设有若干操作室如成膜室、装料室和卸料室。薄膜是在停上而准确地位于成膜室内的基片上形成的。因此，对防镀片可作相当靠近基片的安排，以及在成膜时不会在规定部分以外的基片上和在真空容器内镀上薄膜。

因此就可尽量减少在不必要的部分上镀上薄膜，由于可以减少防镀片的构件数量，维护也变得容易了。但，在真空中操作的自动机在设备中心基本上一次只能传送一个基片，其基片的传送能力就很有限。这样，生产率也受到限制。

近年来，曾就这两类设备提出了几种新的喷镀设备。例如，在日本公开专利申请No.4-137522、6-69316、8-3744和9-143733中就公开了这方面的技术。

这些新喷镀设备的共同之处是采用了称作基片小车、支架或基片传送器的基片夹持器，对基片作平行于基片表面的传送。为形成薄膜，将基片装在基片夹持器上，使其按用途在各操作室内移动。

但，认为对普通的串联式喷镀设备作出了改进的这些喷镀设备并没有解决串联式喷镀设备中存在的传统问题。也就是，对传送中在基片和防镀片之间或在基片夹具和防镀片之间的间隙仍采取一固定的距离。因此，在基片夹具上或在真空容器内镀上不必要的薄膜这一问题还是没有得到改进。

本发明的目的是提供一种能形成高质量镀膜的喷镀设备。

本发明另一目的是提供一种维护容易的喷镀设备。

本发明的再一个目的是提供一种在传送基片中能防止基片受损的喷镀设备。

作为本发明的一个方面，用以在真空室内夹持在基片夹具上的基片上形成喷镀薄膜的喷镀设备包括对电极、位于对电极和基片夹具之间的防镀片，基片夹具传送机构和移动机构，移动机构用以移动基片夹具传送机构而改变基片和防镀片之间的距离。

由于移动机构移动基片夹具传送机构而改变基片和防镀片之间的距离，当在基片上形成薄膜时基片可移近防镀片而在传送基片时基片可移离防镀片。因此，在基片夹具上或在真空容器内就不会镀上不必要的薄膜，并可使基片夹具等的维护比较容易。由于不会镀上不必要的薄膜，基片就不会由于脱落的薄膜受到沾染。这样，就可在基片上形成高质量的镀膜。

作为本发明的另一方面，用以在真空室内由基片夹具夹持的基片上形成喷镀薄膜的喷镀设备包括对电极、位于对电极和基片夹具之间的防镀片和移动机构，移动机构用以移动防镀片而改变基片和防镀片之间的距离。

由于移动机构移动防镀片而改变基片和防镀片之间的距离，当在基片上形成薄膜时基片可移近防镀片而在传送基片可移离防镀片。因此，在基片夹具或在真空容器内就不会镀上不必要的薄膜，就可使基片夹具等的维护比较容易。由于不会镀上不必要的薄膜，基片就不会由于脱落的薄膜受到沾染。这样，就可在基片上形成高质量的镀膜。

本发明的以上和其他目的、特点、状况和优点从以下对本发明结合附图所作具体说明会变得更加明显。

图1、2为平面图和正视图，简略地示出本发明喷镀设备第一实施例结构；