[发明专利]存储盘和其制造方法及用该存储盘的驱动器的制造方法

权利要求书

1.一种存储盘，其构成包括基本上由非流体粘合层组成的润滑层。

2.一种存储盘，其构成包括至少包含90％的非流体粘接层的润滑层。

3.根据权利要求2的存储盘，其中所述存储盘具有平均粗糙度Ra为1.0nm以下，并且具有一个厚度在1.5nm以上的润滑层。

4.根据权利要求2的存储盘，其中所述存储盘在其CSS(接触起停)区具有平均粗糙度Ra为1.0nm以下，并且具有一个厚度在1.5nm以上的润滑层。

5.一种存储盘驱动器，其构成包括：

权利要求2、3和4中任何一项所定义的存储盘；

在其滑动块的表面上具有突起的磁性读/写头；以及

用于驱动所述存储盘的驱动机构。

6.一种存储盘驱动器，其构成包括：

权利要求2、3和4中任何一项所定义的存储盘；

读/写头；以及

用于驱动所述存储盘的驱动机构，其中所述存储盘在其CSS区中有突起。

7.一种制造存储盘的方法，其步骤包括：

在磁盘基片上形成碳保护膜；

在所述碳保护膜上涂敷润滑剂；

对得到的所述磁盘基片进行粘附处理以便将所述润滑剂的粘合层粘接到所述磁盘基片上；以及

将未粘合到所述磁盘基片上的所述润滑剂的流体层(自由层)去除。

8.根据权利要求7的方法，其中所述润滑剂是氟化物润滑剂。

9.根据权利要求7的方法，其中所述粘接处理是采用紫外光或短波紫外光进行辐照使所述润滑剂硬化。

10.根据权利要求7的方法，其中所述粘接处理是采用紫外光或短波紫外光进行辐照使所述润滑剂分两阶段进行硬化，其中所述辐照：

在第1阶段只施加于所述磁盘基片的CSS区；

在第2阶段施加于所述磁盘基片的整个区域。

11.一种制造存储盘的方法，包括下列步骤：

形成铝合金磁盘基片；

用NiP对所述铝合金磁盘基片进行镀敷；

在所述镀敷NiP的磁盘基片上形成底层；

在所述底层上形成记录层，之后再形成碳保护膜；以及

在所述碳保护膜上形成润滑层，

其中所述形成碳保护膜的步骤包括下列步骤：

涂敷氟化物润滑剂；

通过采用紫外光或短波紫外光辐照所得到的磁盘基片使所述基片硬化；以及

从所述基片上去除残留在所述基片上的所述润滑剂的流体成分(自由层)。