[发明专利]存储盘和其制造方法及用该存储盘的驱动器的制造方法

说明书

本发明一般涉及用在存储盘装置如磁盘驱动器和光盘驱动器中的存储盘，特别是涉及其上具有润滑层的存储盘。

硬盘驱动器(HDD)一直用作个人计算机和工程工作站存储大量信息的的辅助存储装置。HDD使用磁盘来读写盘上的信息。为应付日益增加的信息，一直努力提高记录密度和减小尺寸以求改进其容量。例如，到1991年为止，磁盘记录密度的的增加速度是每10年增加10倍。于是预期到2000年记录密度将为10³MB/in²(1 GB/in²)。

然而，实际上记录密度的增加比预期快得多，特别是在3.5in(英寸)的磁盘驱动器或更小的磁盘驱动器中，部分是归功于近来被称为磁阻效应型(MR)磁头的新型磁头和新的记录方法(称为PRML方法：即部分响应最大似然方法)的开发工作。的确，在1995年线记录密度达到1GB/in²。

作为磁盘驱动器的主要部件之一的磁盘一般是采用三种工艺/方法之一制造，这三种方法是：涂敷法，是将铝和γ-氧化铁与树脂的均匀混合物涂敷在金属的磁盘基片上，然后烧结并硬化；镀敷法，是将磁性材料，如CoNiP，镀敷于磁盘基片上；和溅射淀积法，是将γ-氧化铁溅射淀积在磁盘基片上形成铁氧体薄膜。

多数新近的具有中间尺寸(即直径为5.25in和更小)的磁盘是采用溅射淀积法形成象CoNi、CoCrTa和CoPtCr这些钴合金的薄磁性膜。这主要是因为溅射淀积法适于控制所淀积的磁性薄膜的磁性和易于实现较高的剩磁密度以补偿小型磁盘上的低线性跟踪速度。

另一方面，努力一直集中于改进磁头使之可提供更高的磁盘数据存储密度同时减小磁盘驱动器的尺寸，并且用于通常磁盘的、人们熟悉的磁感应磁头现在正在为更先进类型的磁阻效应型(MR)磁头所代替。这种磁阻效应型磁头对外加磁场高度敏感。其敏感性比通常的磁头高很多，并且在同样的运行条件下可提供等于通常磁头5至10倍的输出，从而可产生更高的记录密度。近来，另一种敏感磁头，即具有更高敏感性的巨磁阻效应型(GMR)磁头的开发工作也正在进展之中。

这样，磁盘装置一直不断地改进，密度提高而尺寸减小，并且相应地减小磁头的浮动高度(即磁头飘浮于磁盘之上的高度)以保证有效的读写。

多数磁盘装置一般采用“CSS(contact start-stop，接触起停)”方式，在磁头不工作期间磁头停留在距磁盘边缘几毫米处的磁盘的环形区(接触起停区)上。当磁盘受到驱动而快速转动时，磁盘拖动空气随其一起转动，在磁头和磁盘之间建立一个空气流，从而使磁头在磁盘上提起或浮动。为使磁头在浮动位置上保持稳定平衡，磁头一般配备有具有复杂轨道结构的用来支承磁头的磁头滑动块。磁头滑动块可采用光刻技术形成。

为减小提起高度，要求减小磁盘表面的粗糙度，以使磁头在读写时不会与磁盘发生碰撞。然而，如粗糙度过小，磁头与磁盘的净接触面积将变得太大，这经常导致磁头粘附或粘贴于磁盘上而使其不能浮动。事实上，如果磁盘表面用厚度为1.0nm以上的润滑层润滑就会发生这种粘附现象。为避免此种粘附，最好是在盘上涂敷很薄的润滑层，厚度大约为几埃。

另一种减小可能发生的上述磁头粘附现象的办法是一种称为“区域织构技术”的技术，这种技术就是或是在磁头轨道上或是在磁盘的接触起停区的表面上设置微小突起以求减小磁头和磁盘之间的有效接触。

然而，这些突起将在每个突起的小接触面上产生很大的压强，因此似乎接触面上的润滑层将很容易磨损，如果润滑层很薄的话。在接触面上缺少润滑层将导致磁头和磁盘之间的固体-固体接触，会导致在其间产生不能允许的摩擦。在这种条件下突起也经常会很快磨损。

本发明试图通过在磁盘上设置较厚的润滑层并在磁头上或在磁盘上形成较硬突起来改进磁盘装置的抗磨性。然而，已发现磁盘上常规润滑剂的厚润滑层并不能减小其间的摩擦，这是因为在磁盘旋转时作用于润滑剂上的离心力最终使润滑剂在径向方向上向外移动。

因此本发明的一个目的是提供一种考虑到上述问题的新颖的磁盘。

本发明的另一个目的是提供一种制造此种新颖磁盘的卓越方法。

本发明的再一个目的是提供一种磨损较少的存储盘。

本发明的又一个目的是提供一种可减少存储盘装置上的磁头滑动块的磨损的存储盘。

在本发明的一种实施方案中，可提供一种存储盘，其构成包括一个基本上由非流体粘接层组成的润滑层。

在本发明的另一种实施方案中，可提供一种存储盘，其构成包括由一个包含至少90％的非流体粘接层的润滑层。