[发明专利]采用条纹图形的覆盖测定技术

权利要求书

1.一种检测半导体制造过程中两个掩蔽工序不对齐情况的方法，它包括下列步骤：

给掩蔽工序使用的两个掩模配备一种重复图形，这种重复图形彼此重叠在一起时能产生表示两个掩模不对齐程度的条纹图形；

用所述两个掩模在处理中的半导体晶片表面形成两个掩模彼此重叠时的标记图形，以产生条纹图形；

用光观测所产生的条纹图形；

将所观测的条纹图形与两个掩模达到容许的对齐情况时相应的条纹图形相比较。

2.如权利要求1所述的方法，其中两个掩模上的重复图形由多个线条和间距组成，两个图形的区别仅在于线条和间距的宽度上。

3.如权利要求2所述的方法，其中各图形中的各线条和间距，宽度均匀，两图形线条和间距的宽度差也均匀。

4.如权利要求1所述的方法，其中两个掩模各自的标记图形为相同的方块组成的方格盘图形，两个图形中各方块的大小相差一定值。