[发明专利]一种低磷聚合物分散阻垢缓蚀剂及其制备方法无效
| 申请号： | 99111421.3 | 申请日： | 1999-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN1284480A | 公开（公告）日： | 2001-02-21 |
| 发明（设计）人： | 杨再鹏;张英雄;许树华;王桂英;康玲;张宝欣;左宝昌 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工集团公司;中国石油化工集团公司北京化工研究院 |
| 主分类号： | C02F5/14 | 分类号： | C02F5/14 |
| 代理公司： | 北京思创专利事务所 | 代理人： | 韦庆文 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 聚合物 分散 阻垢缓蚀剂 及其 制备 方法 | ||
1．一种用于循环水的阻垢缓蚀剂，包括如下结构式的聚合物：式中：
R1表示氢或甲基；
R2表示氢、甲基、羟甲基；
R3表示COOE、CONH2、CH2SO3H；
E表示羟乙基或羟丙基；
m、n、s、x为正整数；
该聚合物是利用在部分水解的聚丙烯酰胺分子中，通过磺甲基化反应和磷甲基化反应引入磺甲基和膦甲基。
2．按权利要求1所述的阻垢缓蚀剂，基特征是还包括缓蚀剂PC-604和HEDP其用量为10mg/l以下。
3．按权利要求1所述的阻垢缓蚀剂，其特征是聚合物的平均分子量为1000-10000。
4．按权利要求1所述的阻垢缓蚀剂，其特征是通过一步合成法或两步合成法来制备，所述的一步合成法是在部分水解的聚丙烯酰胺类的分子中，通过磺甲基化反应和磷基化反应，同时引入磺甲基和膦甲基；所述的两步合成法是在部分水解的聚丙烯酰胺类的分子中引入磺甲基后，再引入膦甲基。
5．按权利要求1或2所述的阻垢缓蚀剂，基特征是磷含量为0.1-3％，以重量计。
6．按权利要求1所述的阻垢缓蚀剂，其特征是膦甲基化反应所用的膦化剂是亚磷酸或其钠盐。
7．按权利要求4所述的阻垢缓蚀剂，其特征是聚合物的合成反应温度是反应物流的回流温度。
8．按权利要求7所述的阻垢缓蚀剂，其特征是反应物流的回流温度为50-104℃。
9．按权利要求1所述的阻垢缓蚀剂，其特征是R1与R2初始含量之比为1∶1-1∶4，R3与NHCH2POH2之比为2∶1-6∶1。
10．按权利要求1所述的阻垢缓蚀剂，其特征是磺化剂是焦亚硫酸钠或亚硫酸钠。
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