[发明专利]降低半导体功率器件结温的工艺流程无效
申请号: | 99117069.5 | 申请日: | 1999-09-08 |
公开(公告)号: | CN1287385A | 公开(公告)日: | 2001-03-14 |
发明(设计)人: | 李寿华 | 申请(专利权)人: | 广州市高科通信设备有限公司 |
主分类号: | H01L23/36 | 分类号: | H01L23/36;H05K7/20 |
代理公司: | 广东专利事务所 | 代理人: | 李潮瑞 |
地址: | 510630 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 降低 半导体 功率 器件 工艺流程 | ||
本发明涉及如何降低半导体功率器件结温的所用材料,以及安装此类材料的工艺流程。
如何使半导体功率器件的功耗在同等散热器下,降到最小,除在电路设计上采取一定线路外,就器件外部使散热效率提高到最高,对于提高功率器件的可靠性,降低生产成本是十分关键的。特别是对于在开关电源中的半导体功率器件的结温在同等条件下,如何降低得更低,对于开关电源的可靠性、体积大小方面起着关键的作用。
现有的半导体功率器件的散热工艺为:在外购的散热器上涂上一层导热膏,加绝缘材料,螺钉固定。上述工艺的缺点是由于接触面不平整,普通导电膏厚度太厚,热传导不高,绝缘膜热传导率低,时间久后回起氧化层,增加热阻力所以效果不好。按国际国内电源专家的论述,结温每降低2℃,可靠性提高10%。所以在同等散热器条件下,采用此适用工艺后,电源可靠性可提高几倍。
本发明过程克服了传统半导体功率器件的散热处理过程,避免了背景工艺流程散热效率低的特征。
本发明过程是这样实现的:将半导体功率器件的散热器的安装面先用铣床,后用磨床进行机械加工,随后用铝材化学研磨剂进行化学研磨,上述完成后,将导热绝缘片两面涂上硅脂,半导体功率器件安装面涂上硅脂,三个零件固定在一起,送入烘箱高温去潮,去潮后,立即对半导体器件喷三防材料,室温贮存1-4小时,半导体功率器件表面出现一层保护膜。铣床加工时,铣20丝至200丝,磨床磨3丝至50丝。化学研磨时间,30分钟至4小时。烘箱高温去潮过程,温度70℃-150℃,时间20分钟-2小时。高温去潮后,立即对功率器件喷三防材料,室温贮存时间2小时-3小时,功率器件表面出现一种薄膜。机械加工的光洁度为8级-12级。
经过此工艺处理后的结温与未按此工艺条件的相比,温度降低8℃-10℃。
下面结合附图对本发明的实施例进一步说明。
图1是散热器元件面机械加工和化学试剂研磨图。
图2是导热绝缘膜片,和半导体功率器件。
图3是三个零件安装固定后的整件图。
图4是按降低半导体功率器件结温的工艺流程应用的范例整件图。
图1中1是散热器元件加工面,2是加工面化学试剂研磨。
图2中1是导热绝缘薄膜,2是半导体器件。
图3中1是导热绝缘薄膜,2是半导体功率器件,3是机械加工后的散热器。
图4中1是50张导热绝缘膜,2是50只半导体功率器件,3是按发明工艺加工后的散热器。
本实施范例所用材料:铝散热器、半导体功率器件、导热/绝缘材料、硅脂、装配双面印制板、化学试剂:BMG3号铝材液体研磨剂。
工艺过程是将散热器元件安装面用铣床铣50丝,再用磨床磨5丝,在这机械加工后,将化学研磨试剂BMG3铝材液体研磨剂浇于机械加工面,进行化学研磨1小时,使光洁度达到10级以上。把50张导热/绝缘片两面涂上硅脂,贴到散热器上,再将50只场效应管2SK1358的安装面涂上硅脂后固定在散热器和绝缘片之上。整件装配完后,送到烘箱进行去潮处理。温度110℃,时间20-60分钟。去潮处理后,整件拿出烘箱,立即对半导体功率器件2SK1358进行喷涂三防材料,在常温下贮存3小时,形成一种保护膜。
按上述工艺制成的整件,在整机上输出电压36V,电流400A,有效功率14KW时,散热器表面温度仅45℃。国家标准为<70℃。而未采用此种工艺时,温度在60℃以上。若在同样60℃情况下,体积可减少1/3,功率可提高1/5。
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