[发明专利]用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜层压物有效
| 申请号： | 99118105.0 | 申请日： | 1999-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN1245300A | 公开（公告）日： | 2000-02-23 |
| 发明（设计）人： | 水泽龙马;朝日伸吉;中里俊二;带谷洋之 | 申请（专利权）人： | 东京応化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/09 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 砂磨 光敏 组合 以及 层压 | ||
1.一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，其结构单元如下：
(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。
2.一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，它是由(a)二异氰酸酯化合物与主要包括1，4-丁二醇的二元醇化合物的反应产物与(b)具有一个羟基或羧基的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯化合物反应制得的，(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。
3.如权利要求1所述的砂磨用光敏组合物，其特征在于所述碱溶性化合物是纤维素衍生物。
4.如权利要求2所述的砂磨用光敏组合物，其特征在于所述碱溶性化合物是纤维素衍生物。
5.一种砂磨用光敏膜层压物，它包括挠性薄膜、在该挠性薄膜上的光敏层以及在光敏层上的剥离膜，其中所述光敏层包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，其结构单元如下：
(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。
6.一种砂磨用光敏膜层压物，它包括挠性薄膜、在该挠性薄膜上的光敏层以及在光敏层上的剥离膜，其中所述光敏层包括(A)可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，它是由(a)二异氰酸酯化合物与主要包括1，4-丁二醇的二元醇化合物的反应产物与(b)具有一个羟基或羧基的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯化合物反应制得的，(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。
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