[发明专利]用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜层压物

说明书

本发明涉及一种用于砂磨的新的光敏组合物。更具体地说，本发明涉及一种用于砂磨的光敏组合物，它具有优良的碱的显影性、与基片足够的粘性和感光度，并且形成图案后，它具有高的弹性和柔软性，并具有优良的耐砂磨性，因此能形成精细和精密的图案。本发明还涉及含该光敏组合物的光敏膜层压物。

已知砂磨是一种在基片(如玻璃、石材、塑料、陶瓷、皮革和木材)表面形成图案的技术。砂磨是采用使用模版的方法实施的，在该方法中，将橡胶片、纸等粘附于基片上并用切割机等切割之，形成模版图案，随后用磨料打磨该基片，以选择性地磨去基片；或者是采用使用光掩模的方法实施的，在该方法中，在基片上形成光敏组合物的光敏层，用影印法形成光掩模图案，随后用磨料进行打磨以选择性地磨去基片。第一种方法存在工作效率低的问题。另一方面，第二种影印方法的工作效率高，能精密地进行加工，能有效地制造由金属图案和绝缘图案构成的线路板，尤其能有效地制造等离子显示板的金属布线图案和由陶瓷、荧光物质等制成的绝缘图案。

目前提出的用于平板印刷砂磨的光敏组合物包括在端部具有烯键不饱和基团的聚氨酯预聚物、单官能的烯键不饱和化合物和聚合引发剂的组合物(参见JP-A-60-10242)，含有不饱和聚酯、不饱和单体和光致聚合引发剂的组合物(参见JP-A-55-103554)，以及含有聚乙烯醇和重氮树脂的组合物(参见JP-A-2-69754)。在本文中术语“JP-A”指公布的未审查日本专利申请。但是，由于这些光敏树脂组合物的缺点在于薄膜的厚度难以控制，感光度、与基片的粘性和耐砂磨性不够，并且难以进行精密的加工。为了克服这些缺点，JP-A-6-161098提出过一种用于砂磨的光敏组合物，该组合物包括在端部具有烯键不饱和基团的聚氨酯预聚物主要组分、纤维素衍生物以及聚合引发剂。尽管该组合物不仅具有优良的碱显影性，而且具有优良的感光度和与基片的粘性，并且形成图案后具有优良的弹性和柔软性，它的耐砂磨性也优于常规的光敏组合物，但是它在实践中在形成精细图案方面仍不能令人满意。因此迫切需要开发一种具有改进特性的光敏组合物。

本发明的目的是提供一种砂磨用光敏组合物，它具有优良的碱显影性、感光度、与基片的粘性形成图案后具有优良的弹性、柔软性和耐砂磨性，适用于形成精细的金属或绝缘图案。

本发明的另一个目的是提供一种光敏膜层压物，它具有一层包括上述光敏组合物的光敏层。

本发明人经不断研究，发现使用含二异氰酸酯化合物与1，4-丁二醇的反应产物作为主要结构单元的可光致聚合的聚氨酯-(甲基)丙烯酸酯低聚物，可获得无常规光敏组合物上述缺点并且能形成精细图案的砂磨用光敏组合物。本发明就是在这个发现的基础上完成的。

本发明涉及一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，其结构单元如下：

(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。

本发明还涉及一种光敏膜层压物，它具有包括上述光敏组合物的光敏层。

本发明砂磨用光敏组合物具有优良的碱显影性、感光度和粘性，形成图案后它具有弹性、柔软性和耐砂磨性，适用于形成精细的图案，如金属图案和绝缘图案。本发明光敏膜层压物容易定位，很适合在电子部件上形成精细图案。

作为本发明光敏组合物组分特征的可光致聚合的聚氨酯-(甲基)丙烯酸酯低聚物含有二异氰酸酯化合物与1，4-丁二醇的反应产物作为主要结构单元。可光致聚合的聚氨酯-(甲基)丙烯酸酯是该结构单元与带羟基或羧基的(甲基)丙烯酸酯化合物反应获得的产物。含有二异氰酸酯化合物/1，4-丁二醇的反应产物作为主要结构单元的本发明光敏组合物显示出改进的与基片的粘性和改进的耐砂磨性，从而能精确地形成精细的图案，如金属布线图案和绝缘图案，尤其是用于等离子显示板的金属布线图案和陶瓷或荧光绝缘图案。具体地说，分子中具有4根或更多根氨基甲酸酯键的聚氨酯-(甲基)丙烯酸酯低聚物是较好的。如果聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物中氨基甲酸酯键的数量小于4，其耐砂磨性会显著下降。