[发明专利]高压用电阻及其电阻值调整方法有效

专利信息
申请号: 99126058.9 申请日: 1999-12-14
公开(公告)号: CN1262516A 公开(公告)日: 2000-08-09
发明(设计)人: 东茂树 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01C7/00 分类号: H01C7/00;H01C13/00;H01C17/242
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 高压 用电 及其 阻值 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种高压用电阻,包括:

基片和在所述基片上形成的电阻膜,其特征在于,由所述基片上的电阻膜的非形成部开始覆盖电阻膜,通过激光调整所形成的多个直线状调整槽是平行的,并且形成位于电阻膜内的一端使位于与调整槽互相垂直的一条直线上。

2.一种高压用电阻的电阻值调整方法,包括基片和在所述基片上形成的电阻膜,其特征在于:

由所述基片上的电阻膜的非形成部开始覆盖电阻膜,通过激光调整,根据由初始电阻值算出的调整长度用同样的长度形成多个调整槽。

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