[发明专利]氧化锡颗粒

权利要求书

1．一种包括结晶氧化锡的颗粒集合体，该颗粒集合体的平均直径大约500nm或更低，其中至少大约95％毫微粒的直径大于平均直径的大约50％，小于平均直径的大约150％。

2．如权利要求1的颗粒集合体，其中平均直径为大约100nm或更低。

3．如权利要求1的颗粒集合体，其中平均直径为大约5nm至大约50nm。

4．如权利要求1的颗粒集合体，其中氧化锡具有SnO₂的化学计量。

5．如权利要求1的颗粒集合体，其中至少大约99％毫微粒的直径大于平均直径的大约50％，小于平均直径的大约150％。

6．如权利要求1的颗粒集合体，其中大约95％毫微粒的直径大于平均直径的大约60％，小于平均直径的大约160％。

7．如权利要求1的颗粒集合体，其中颗粒大致为球形外观。

8．如权利要求1的颗粒集合体，其中氧化锡具有单一的结晶相。

9．一种包含涂层的器件，该涂层包括权利要求1的颗粒。

10．如权利要求9的器件，其中该装置包括一气敏元件。

11．如权利要求9的器件，其中该装置包括一个显示器，其中涂层的功能作为透明电极。

12．一种制备氧化锡毫微粒的方法，包括在反应室中热解分子流，其中该分子流包括锡前体，氧化气体和辐射吸收气体。

13．如权利要求12的方法，其中热解通过从激光束吸收的热量驱动。

14．如权利要求12的方法，其中激光束通过CO₂激光制备。

15．如权利要求12的方法，其中氧化锡毫微粒平均直径为从大约5nm至大约50nm。

16．如权利要求12的方法，其中锡前体为SnCl₄，氧化气体为O₂。

17．如权利要求12的方法，其中其中至少大约95％毫微粒的直径大于平均直径的大约50％，小于平均直径的大约150％。

18．一种装置，包括

(A)一个与环境空气分离的反应室；

(B)一个限定分子流路径的反应物气体入口，该入口与锡前体

   源，提供氧气试剂源和激光吸收气体源相连；

(C)与分子流路径相交叉的激光束路径；和

(D)产品出口。

19．如权利要求18的装置，其中锡前体为SnCl₄，提供氧气反应物为O₂。

20．如权利要求18的装置，其中反应物气体入口优选在一维拉长。

21．权利要求18的装置进一步包括一个沿着激光束路径成一直线以产生激光束的CO₂激光。

22．权利要求18的装置进一步包括一与锡前体源液体连接的载气。

23．一组结晶氧化锡颗粒集合体产生谱线位置如图9所示衍射光谱图。