[发明专利]抗反射的萤幕滤镜及其制造方法无效
| 申请号： | 00106242.5 | 申请日： | 2000-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN1320825A | 公开（公告）日： | 2001-11-07 |
| 发明（设计）人： | 朱兆杰;李昭松 | 申请（专利权）人： | 冠华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B5/22;C03C17/34 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘朝华 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种抗反射的萤幕滤镜及其制造方法。第一层镀膜最接近基板,其由溅镀方式镀成在波长520奈米时的折射率约在1.85至2.1的范围内的导电氧化物;第二层镀膜是置于第一层镀膜之上为波长520奈米时折射率为1.45至1.5的氧化物;第三层镀膜置于第二层镀膜之上,且由波长520奈米时折射率为1.9至2.2的氧化物所组成;第四层镀膜沉积在最上面,它是由波长520奈米时折射率为1.45至1.55的湿式氧化硅镀膜制程所制成。具有高导电性、低反射性和低成本的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 萤幕 滤镜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种抗反射的萤幕滤镜，包含有四层镀膜结构，其特征在于接近基板的第一层镀膜由一折射率在波长520奈米时为1.85至2.1的导电氧化材料所组成，其厚度在25至50奈米之间；第二层镀膜位于第一层的上方，由折射率在波长520奈米时为1.45至1.5的氧化物所组成，其厚度在10至30奈米之间；第三层镀膜位于第二层镀膜的上方，由折射率在波长520奈米时为1.9至2.2抗化学药品的氧化物所组成，此层的厚度在40至60奈米之间；第四层镀膜位于第三层镀膜的上方，由折射率在波长520奈米时为1.45至1.5的氧化物所组成，此层的厚度在85至100奈米之间；
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